[发明专利]一种光栅、制造方法和辐射成像装置有效
申请号: | 201510107091.3 | 申请日: | 2015-03-11 |
公开(公告)号: | CN106033133B | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 张丽;张金宇;洪明志;黄清萍 | 申请(专利权)人: | 同方威视技术股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨;薛晨光 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种光栅、制造方法和辐射成像装置,该光栅包括:设有若干个栅格的第一栅格片和与所述第一栅格片相同的第二栅格片;所述第一栅格片与格片第二栅格片叠加,所述第一栅格片的栅格与所述第二栅格片的栅格平行;所述第一栅格片与所述第二栅格片沿所述栅格的宽度方向上错位,所述第一栅格片的栅格不完全遮挡所述第二栅格片的栅格间隙。本发明与现有技术相比,通过物理方式形成栅格片,将两片栅格片叠加的方式组合形成光栅。本发明采用物理成型工艺实现了光栅的加工,从而大幅降低了成本,缩短了生产周期。 | ||
搜索关键词: | 一种 光栅 制造 方法 辐射 成像 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光栅,其特征在于,包括:设有若干个栅格的第一栅格片和与所述第一栅格片相同的第二栅格片;所述第一栅格片与第二栅格片叠加,所述第一栅格片的栅格与所述第二栅格片的栅格平行;所述第一栅格片与所述第二栅格片沿所述栅格的宽度方向上错位,所述第一栅格片的栅格不完全遮挡所述第二栅格片的栅格间隙;其中,所述栅格是设置在所述第一栅格片一侧的垂直于栅格片所在平面的若干凸棱;所述第一栅格片和所述第二栅格片均包括基板,所述栅格形成于所述基板上,所述栅格只有其起始端和终止端和所述基板相连接;所述第一栅格片有栅格的一面靠近与所述第二栅格片有栅格的一面叠加,所述第一栅格片的栅格位于所述第二栅格片的栅格间隙中;其中,所述第一栅格片的栅格高度和所述第二栅格片的栅格高度相同。
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