[发明专利]使光入射到光波导中的入射方法在审

专利信息
申请号: 201510468563.8 申请日: 2015-08-03
公开(公告)号: CN105334571A 公开(公告)日: 2016-02-17
发明(设计)人: 绀谷友广;尾崎真由 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12;G02B6/122;G02B6/24;G01N21/552
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 使光入射到光波导中的入射方法。本发明提供一种使光入射到多模光波导的芯层的入射方法。所述光波导包括:下包层;和所述芯层,以所述芯层的至少一部分与所述下包层邻接的方式形成所述芯层。所述方法包括使光入射到所述芯层,使得:光在所述多模光波导的入射口侧端面处的光斑完全包括所述芯层的入射口;光在所述多模光波导的入射口侧端面处的光斑面积为所述芯层的入射口的面积的两倍或更大;并且光在所述芯层的入射口端面处的入射角度范围为从10°到30°。
搜索关键词: 入射 波导 中的 方法
【主权项】:
一种使光入射到多模光波导的芯层的入射方法,所述光波导包括:下包层;和所述芯层,以所述芯层的至少一部分与所述下包层邻接的方式形成所述芯层,所述入射方法包括使光入射到所述芯层,使得:光在所述多模光波导的入射口侧端面处的光斑完全包括所述芯层的入射口;光在所述多模光波导的入射口侧端面处的光斑面积为所述芯层的入射口的面积的两倍或更大;并且光在所述芯层的入射口端面处的入射角度范围为从10°到30°。
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