[发明专利]晶体硅酸性抛光液的添加剂及其应用有效
申请号: | 201510946749.X | 申请日: | 2015-12-17 |
公开(公告)号: | CN105385359B | 公开(公告)日: | 2018-07-13 |
发明(设计)人: | 章圆圆;宋卫平;符黎明 | 申请(专利权)人: | 常州时创能源科技有限公司 |
主分类号: | C09G1/06 | 分类号: | C09G1/06;H01L21/306 |
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地址: | 213300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种晶体硅酸性抛光液的添加剂及其应用,该添加剂由2~5质量份酒石酸、0.5~2.0质量份聚乙烯醇、1~3质量份硫酸钠和100质量份水组成。在对硅片进行表面抛光时,将本发明的添加剂加入到酸性溶液中,可达到优异的抛光效果,且可在低酸浓度下实现抛光。 | ||
搜索关键词: | 质量份 添加剂 硅酸 抛光液 硫酸钠 表面抛光 聚乙烯醇 抛光效果 酸性溶液 酒石酸 抛光 硅片 低酸 应用 | ||
【主权项】:
1.晶体硅酸性抛光液的添加剂,其特征在于,由2~5质量份酒石酸、0.5~2.0质量份聚乙烯醇、1~3质量份硫酸钠和100质量份水组成。
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