[实用新型]一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫有效
| 申请号： | 201920291759.8 | 申请日： | 2019-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN209615157U | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 元利勇;曾昊;王玉茹;张珂 | 申请（专利权）人： | 同辉电子科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20 |
| 代理公司： | 石家庄元汇专利代理事务所(特殊普通合伙) 13115 | 代理人： | 张建茹 |
| 地址： | 050200 河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，属于碳化硅加工设备技术领域，包括与抛光盘连接的底盘、设置于底盘上的绒毛层、设置在底盘上的一组抛光液喷出孔及一组抛光液回流孔，抛光液喷出孔与抛光液喷涂装置连接，抛光液回流孔与回收装置连接，抛光液回流孔的直径大于碳化硅粉末的直径，抛光液喷出孔、抛光液回流孔在底盘上穿插设置，回收装置借助过滤装置与抛光液喷涂装置连接，利用该抛光垫能够使抛光液均匀分布并有效地防止抛光过程中产生的粉末及抛光液的堵塞，提高抛光效率及抛光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光液 回流孔 底盘 喷出孔 碳化硅 回收装置 喷涂装置 有效解决 抛光 抛光垫 堵塞 碳化硅粉末 穿插设置 过滤装置 加工设备 抛光过程 抛光效率 抛光盘 绒毛层 有效地 | ||
【主权项】：
1.一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，包括与抛光盘连接的底盘(1)、设置于底盘(1)上的绒毛层(2)，其特征在于：该抛光垫还包括设置在底盘(1)上的一组抛光液喷出孔(3)及一组抛光液回流孔(4)，所述的抛光液喷出孔(3)与抛光液喷涂装置连接，所述的抛光液回流孔(4)与回收装置连接，抛光液回流孔(4)的直径大于碳化硅粉末的直径。
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- 2014-08-29 - 2017-07-28 - B24B37/20
- 本发明提供了一种用来对基材进行化学机械抛光的方法，该方法包括提供一种基材，提供一种化学机械抛光垫，其包括具有一定组成和抛光表面的抛光层，其中对所述抛光层的组成进行选择，使其具有初始水解稳定性,以及持续水解不稳定性；具有上表面和下表面的刚性层；介于抛光层底表面和刚性层上表面之间的热熔粘合剂；其中所述热熔粘合剂将抛光层与刚性层粘合；具有层叠体侧和台板侧的压敏台板粘合剂层；其中压敏台板粘合剂层的层叠体侧与刚性层的底表面相连；以及在抛光表面和基材之间形成动态接触以抛光基材的表面。
- 化学机械研磨装置-201621306342.7
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- 2016-12-01 - 2017-07-14 - B24B37/20
- 本实用新型涉及一种化学机械研磨装置，包括研磨平板，传感器探头(sensor probe)结合于研磨平板；研磨垫，其配置于研磨平板的上面并且形成有垫孔，所述垫孔与传感器探头相对应；探头盖(probe cap)，其在研磨垫附着于研磨平板的上面的状态下组装于垫孔，从而使得研磨垫配置于研磨平板之后，探头盖得到组装，据此能够更加容易并快速地替换研磨垫。
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