[实用新型]一种气体排放装置和刻蚀设备有效
申请号: | 201520651066.7 | 申请日: | 2015-08-26 |
公开(公告)号: | CN204874747U | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 刘林;李明晖;杨晓峰;陈建;吕耀军;姜秀强 | 申请(专利权)人: | 成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23F1/08 | 分类号: | C23F1/08 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 罗瑞芝;陈源 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型提供一种气体排放装置和刻蚀设备。该气体排放装置,包括用于连接第一腔体并对其中的气体进行排放的第一管道和用于连接第二腔体并对其中的气体进行排放的第二管道,还包括监控调节单元,监控调节单元连接第一管道和第二管道,用于在气体排放过程中监测并调节第一腔体和第二腔体内的气体压力,以使第一腔体和第二腔体内的气体压力达到平衡。该气体排放装置能在气体排放过程中监测并调节第一腔体和第二腔体内的气体压力,以使第一腔体和第二腔体内的气体压力达到平衡,从而避免第一腔体和第二腔体内的气体发生窜扰,进而避免由气体窜扰所导致的第一腔体和第二腔体内的处理工艺出现不良,降低了产品的处理工艺风险,提升了产品的良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 气体 排放 装置 刻蚀 设备 | ||
【主权项】:
一种气体排放装置,包括用于连接第一腔体并对其中的气体进行排放的第一管道和用于连接第二腔体并对其中的气体进行排放的第二管道,其特征在于,还包括监控调节单元,所述监控调节单元连接所述第一管道和所述第二管道,用于在气体排放过程中监测并调节所述第一腔体和所述第二腔体内的气体压力,以使所述第一腔体和所述第二腔体内的气体压力达到平衡。
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