[发明专利]衣物洗涤护理组合物在审
| 申请号： | 201580034767.9 | 申请日： | 2015-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN106471112A | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | B·R·巴特菲尔德;E·托里斯;S·K·戴伊;M·洪;H·秦;D·J·瓦伦蒂 | 申请（专利权）人： | 美利肯公司 |
| 主分类号： | C11D3/42 | 分类号： | C11D3/42;C11D3/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 美国南卡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种衣物洗涤护理组合物，其包含衣物洗涤护理成分或助剂和能够从第一颜色状态(即，组合物中的初始颜色状态)改变为与第一颜色状态可觉察地不同的第二颜色状态的至少一种化合物。本发明还提供了一种处理纺织制品的方法，其包括以下步骤(a)提供如上所述的衣物洗涤护理组合物；(b)将该衣物洗涤护理组合物添加至液体介质中；和(c)将纺织制品放入该液体介质中。 | ||
| 搜索关键词： | 衣物 洗涤 护理 组合 | ||
【主权项】：
衣物洗涤护理组合物，其包含衣物洗涤护理成分和符合选自下式(I)～(XC)的结构的至少一种化合物：其中，X1和X2选自碳原子和氮原子；a为0～5的整数，前提条件是：当X1和X2之一为氮原子时a为0～4的整数，当X1和X2均为氮原子时a为0～3的整数；各个R1独立地选自卤素、羟基、硝基、烷基、经取代的烷基、─S(O)2OH、─S(O)2O‑[M+]、─C(O)OR5、─C(O)R5、─C(O)NR5R6、─NC(O)OR5、─NC(O)SR5、─OR5、─NR5R6、─S(O)2R5、─S(O)2NR5R6和─P(O)2R5；M为阳离子；R5和R6独立地选自氢、烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基和Ra；R2和R3独立地选自芳基、经取代的芳基、杂芳基和经取代的杂芳基，前提条件是：当X1和X2均为碳原子时，R2和R3中的至少一个为杂芳基或经取代的杂芳基；L1选自氢、卤素、羟基、氰基和─OR8；R8选自烷基和经取代的烷基；其中，X10选自─C(O)─和─S(O)2；d为0～4的整数；各个R10独立地选自卤素、硝基、烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基、─S(O)2OH、─S(O)2O‑[M+]、─C(O)OR5、─C(O)R5、─C(O)NR5R6、─NC(O)OR5、─NC(O)SR5、─OR5、─NR5R6、─S(O)2R5、─S(O)2NR5R6和─P(O)2R5；前提条件是：R2和R3中的至少一个选自杂芳基和经取代的杂芳基；其中，e和f独立地是0～4的整数；各个R20和R21独立地选自卤素、硝基、烷基、经取代的烷基、─NC(O)OR5、─NC(O)SR5、─OR5和─NR5R6；各个R25独立地选自糖残基(即，单糖残基、二糖残基、寡糖残基和多糖残基)、─C(O)R5、─C(O)OR5、─C(O)NR5R6；并且各个R22和R23独立地选自氢、烷基和经取代的烷基；其中，R30选自─OR36和─NR36R37，各个R36和R37独立地选自氢、烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基、酰基、─C(O)OR5、─C(O)R5和─C(O)NR5R6；g和h独立地为0～4的整数；各个R31和R32独立地选自烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基、─S(O)2OH、─S(O)2O‑[M+]、─C(O)OR5、─C(O)R5、─C(O)NR5R6、─NC(O)OR5、─NC(O)SR5、─OR5、─NR5R6、─S(O)2R5、─S(O)2NR5R6和─P(O)2R5；R34和R35独立地选自氢、烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基和Ra；R33选自氢、─S(O)2R5、─C(O)N(H)R5、─C(O)OR5和─C(O)R5；X30、X31、X32和X33独立地选自碳原子和氮原子，前提条件是：X30、X31、X32和X33中不超过两个为氮原子；其中，X40选自氧原子、硫原子和NR45；R45选自烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基、─S(O)2OH、─S(O)2O‑[M+]、─C(O)OR5、─C(O)R5和─C(O)NR5R6；R40和R41独立地选自─OR5和─NR5R6；j和k独立地为0～3的整数；各个R42和R43独立地选自烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基、─S(O)2R5、─C(O)NR5R6、─NC(O)OR5、─NC(O)SR5、─C(O)OR5、─C(O)R5、─OR5、─NR5R6；R44选自─C(O)R5、─C(O)NR5R6、─C(O)OR5和─C(O)SR5；其中，R50、R51和R52独立地选自芳基、经取代的芳基、杂芳基和经取代的杂芳基；Z为阴离子；m和n独立地为正整数；y为阴离子的电荷；m、n和y的数值满足以下等式：m＝(‑1)·y·n；其中，R54和R55独立地选自芳基、经取代的芳基、杂芳基和经取代的杂芳基；R53选自芳二基、经取代的芳二基、杂芳二基和经取代的杂芳二基；p为正整数；p、n和y的数值满足下述等式：2m＝(‑1)·y·n；其中，X60选自氮原子和硫原子；X61选自氧原子和硫原子；X62选自碳原子和氮原子；q和r独立地为0～4的整数；各个R60和R61独立地选自卤素、烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基、─OR5和─NR5R6；如果q或r为2以上，邻近的R60和R61基团可以组合形成芳基或经取代的芳基；R62选自烷基和经取代的烷基；其中，X70选自氧原子、氮原子和硫原子；X71选自碳原子和氮原子；s和t独立地为0～4的整数；各个R70和R71独立地选自卤素、烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基、─NC(O)OR5、─NC(O)SR5、─OR5和─NR5R6；如果s或t为2以上，邻近的R70和R71基团可以组合形成芳基或经取代的芳基；其中，R80和R81独立地选自烯基、经取代的烯基、芳基、经取代的芳基、杂芳基和经取代的杂芳基；R82、R83、R84和R85独立地选自氢、烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基、─C(O)OR5、─C(O)R5、─C(O)NR5R6、─NC(O)OR5、─NC(O)SR5、─OR5和─S(O)2R5；另外，R82和R85可以组合形成桥接烷二基、桥接氧原子、桥接氮原子或桥接硫原子；其中，u为0～3的整数；v和w独立地为0～4的整数；R90、R91和R92独立地选自卤素、烷基、经取代的烷基、芳基、经取代的芳基、─OR5、─NR5R6、─C(O)OR5、─C(O)NR5R6、─NC(O)OR5、─NC(O)SR5、─S(O)2R5和─S(O)2NR5R6；其中，Ra选自─Rx─O─Ry─Rz和─Ry─Rz；Rx选自烷二基和芳二基；Rz选自氢、烷基、经取代的烷基、酰基和Rb；Rb为一价基团，其符合选自式(I)～(XC)的结构；且Ry为二价取代基，其选自下述基团：(i)包含两个以上二价重复单元的二价取代基，该二价重复单元独立地选自符合式(C)结构的重复单元：其中，R101和R102独立地选自氢、烷基、羟基烷基、芳基、烷氧基烷基和芳氧基烷基；(ii)符合式(CX)结构的二价取代基：其中，R111和R112独立地选自氢、羟基和C1‑C10烷基，aa为1～12的整数，bb为大于或等于1的整数(如1～100)；(iii)符合式(CXX)结构的二价取代基：其中，R121和R122独立地选自氢、羟基和C1‑C10烷基，cc为1～12的整数，dd为大于或等于1的整数(如1～100)；(iv)符合式(CXXX)结构的二价取代基：其中，R131、R132和R133独立地选自烷基和羟基烷基，且ee为大于或等于1的整数(如1～100)；(v)符合式(CXL)结构的二价取代基：其中，各个R141独立地选自氢和烷基胺基团，且ff为大于或等于1的整数(如1～100)；(vi)符合式(CL)结构的二价取代基：其中，gg为大于或等于1的整数(如1～100)；(vii)符合式(CLX)结构的二价取代基：其中，各个R161独立地选自氢和甲基，且hh为大于或等于1的整数(如1～100)；(viii)符合式(CLXX)结构的二价取代基：其中，各个R171、R172和R173独立地选自氢和─CH2CO2H，且jj为大于或等于1的整数(如1～100)；和(ix)包含选自符合式(C)、(CX)、(CXX)、(CXXX)、(CXL)、(CL)、(CLX)或(CLXX)结构的取代基的两个以上取代基的二价取代基。
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- 专利分类
