[发明专利]用于表面处理的线性介质阻挡放电等离子体发生装置有效
| 申请号： | 201680028625.6 | 申请日： | 2016-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN107624268B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 林裕奉;李元吾;朴相厚 | 申请（专利权）人： | 普拉斯有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;宋东颖 |
| 地址： | 韩国大*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种介质阻挡放电等离子体产生装置。所述介质阻挡放电等离子体产生装置包括：功率电极，其包括在第一方向上延伸的角部；接地电极，其与所述功率电极间隔一定距离，以露出所述功率电极的角部并在第一方向上延伸；介质阻挡层，其介于所述功率电极和所述接地电极之间，并被设置成包围所述功率电极的角部；多个喷嘴，其形成在所述接地电极中、在第一方向上彼此间隔一定距离并且被构造成朝着所述功率电极的角部喷射气体；和交流电源，其被构造成向所述功率电极供给交流电力。可以在所述功率电极的角部上进行介质阻挡放电。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面 处理 线性 介质 阻挡 放电 等离子体 发生 装置 | ||
【主权项】：
1.一种介质阻挡放电等离子体产生装置，包括：功率电极，其包括在第一方向上延伸的角部；接地电极，其与所述功率电极间隔一定距离，以露出所述功率电极的角部并在第一方向上延伸；介质阻挡层，其介于所述功率电极和所述接地电极之间，并被设置成包围所述功率电极的角部；多个喷嘴，其形成在所述接地电极中、在第一方向上彼此间隔一定距离并且被构造成朝着所述功率电极的角部喷射气体；和交流电源，其被构造成向所述功率电极供给交流电力，其中，在所述功率电极的角部上进行介质阻挡放电，并且，所述介质阻挡层还包括设置成与所述接地电极接触的外导电层。
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