[发明专利]成像系统和方法有效
申请号: | 201710231171.9 | 申请日: | 2017-04-10 |
公开(公告)号: | CN107144954B | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 戴琼海;陈星晔;吴嘉敏 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G02B21/36 | 分类号: | G02B21/36;G02B21/02 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张润 |
地址: | 100084 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请公开了一种成像系统和成像方法。成像系统包括:荧光显微镜,其中,荧光显微镜包括激光源和物镜,样本放置在物镜的焦平面上,激光源用于发射激光以照射样本,物镜用于将被激光照射的样本放大在物镜的像平面上,以获得样本的实像;空域掩膜,空域掩膜设置物镜的像平面上,空域掩膜用于对样本的实像进行掩膜调制;4f系统,4f系统设置在所述空域掩膜之后,样本的实像经过空域掩膜到达4f系统;光栅,光栅设置在4f系统中间的傅里叶平面上,光栅用于对将样本的实像进行分离以获得分离之后的实像;以及图像传感器,用于采集分离之后的实像以获得样本的图像。 | ||
搜索关键词: | 成像 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种成像系统,其特征在于,包括:荧光显微镜,其中,所述荧光显微镜包括激光源和物镜,样本放置在所述物镜的焦平面上,所述激光源用于发射激光以照射所述样本,所述物镜用于将被所述激光照射的所述样本放大在所述物镜的像平面上,以获得所述样本的实像;空域掩膜,所述空域掩膜设置所述物镜的像平面上,所述空域掩膜用于对所述样本的实像进行掩膜调制;4f系统,所述4f系统设置在所述空域掩膜之后,所述样本的实像经过所述空域掩膜到达所述4f系统;光栅,所述光栅设置在所述4f系统中间的傅里叶平面上,所述光栅用于将所述样本的实像进行分离以获得分离之后的实像;以及图像传感器,用于采集所述分离之后的实像以获得所述样本的图像。
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