[发明专利]一种离子注入装置及其使用方法在审
| 申请号： | 201710507343.0 | 申请日： | 2017-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN107359100A | 公开（公告）日： | 2017-11-17 |
| 发明（设计）人： | 王玉添 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子注入装置及其使用方法，其中装置包括主离子源、至少一个备用离子源、用于改变接入的离子源种类的离子源切换装置及用于使所述备用离子源和/或主离子源发射的离子进入筛选装置的离子通道。通过上述方式，本发明能够通过设置至少一个备用离子源的方式，在某一离子源需要停机维修时通过切换离子源使得其它离子源与筛选装置相连，保证离子注入装置可以连续工作，实现产品制造过程中的连续性。此外，该方法不需要将整个离子注入装置全部停机，也不需要重新建立真空环境，操作方便。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种离子注入装置，其特征在于，所述装置包括：主离子源、至少一个备用离子源、用于改变接入的离子源种类的离子源切换装置及用于使所述备用离子源和/或主离子源发射的离子进入筛选装置的离子通道。
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