[发明专利]一种多元高熵合金薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201910280504.6 | 申请日： | 2019-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN109988998A | 公开（公告）日： | 2019-07-09 |
| 发明（设计）人： | 宋忠孝;从中浩;宋宝睿;李雁淮;李茜 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/34 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 徐文权 |
| 地址： | 710049 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多元高熵合金薄膜的制备方法，包括步骤：将硅片基底清洗；将清洗好的硅片基底吹干；将硅片基底置于进样室进行反溅；将硅片基底传入溅射室内，所需金属单质靶材分别置于靶盘上，加热烘烤腔体，抽真空；通入Ar气，将靶材接入电源，设置溅射功率和偏压，调整工作气压，预溅射；打开硅片基底挡板，之后打开自转，开始溅射；溅射结束，依次关闭电源，偏压，停止通入氩气，之后继续抽真空，后取出冷却的硅片基底，基底上既能得到该耐腐蚀高熵合金薄膜。本发明溅射速率稳定，获得厚度均匀的耐腐蚀高熵合金薄膜材料；制备过程中使用单质金属靶材，降低了高熵合金薄膜的制备成本；操作简单，极大推广耐腐蚀高熵合金薄膜的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 基底 薄膜 高熵合金 耐腐蚀 靶材 溅射 制备 多元高熵合金 抽真空 挡板 氩气 薄膜材料 单质金属 工作气压 关闭电源 厚度均匀 基底清洗 加热烘烤 溅射功率 接入电源 金属单质 制备过程 进样室 预溅射 靶盘 吹干 腔体 自转 冷却 清洗 取出 室内 应用 | ||
【主权项】：
1.一种多元高熵合金薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将单面抛光的硅片清洗；2)将清洗好的硅片基底吹干，使其表面没有任何水渍；3)将硅片基底置于进样室进行反溅，进一步去除材料表面杂质，从而提高基底表面质量；4)将硅片基底传入溅射室内，所需金属单质靶材分别置于靶盘上，加热烘烤腔体，抽真空至4.0×10‑4～5.0×10‑5Pa；5)通入Ar气，将靶材接入电源，设置溅射功率和偏压，调整工作气压至4.5×10‑1Pa，预溅射15～20min，用于清理靶材表面的杂质，提高靶材的纯度；6)打开硅片基底挡板，之后打开自转，开始溅射；7)溅射结束，依次关闭电源，偏压，停止通入氩气，之后继续抽真空，后取出冷却的硅片基底，基底上既能得到该耐腐蚀高熵合金薄膜。
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- 2018-09-11 - 2019-08-20 - C23C14/16
- 本发明公开了一种提高粉末冶金齿轮表面耐磨性能合金层及其制备方法，该合金层自上而下依次包括W‑Mo沉积层、W‑Mo‑Ti梯度陶瓷层和Ti强化层。其制备方法为：在粉末冶金齿轮表面离子注入Ti强化层；在Ti强化层表面用双辉等离子合金化法制备W‑Mo合金层。离子注入Ti会在齿轮表面形成注入层，钛离子与Fe生成的钛铁化合物在齿轮表面与对摩副之间起自润滑作用，有效降低了齿轮的摩擦系数和磨损率，提高了耐磨性能。经双辉等离子合金化制备的W‑Mo合金层包括W‑Mo沉积层和W‑Mo‑Ti扩散层，该扩散层成分由表及里呈梯度分布，与齿轮为冶金结合，提高了与齿轮的结合强度。
- 一种金属表面保护层及其制备方法-201910368740.3
- 李军甫;王再德;张胜超;韩鹏;李帅;马焕明;马梦男 - 中信戴卡股份有限公司
- 2019-05-05 - 2019-08-09 - C23C14/16
- 本发明提供一种金属表面保护层及其制备方法，所述金属表面保护层从内到外包括有机介质层、金属镀膜层和透明粉层；其中，所述有机介质层为在待处理金属表面喷涂有机介质粉末形成；所述金属镀膜层为在所述有机介质层上通过磁控溅射PVD镀形成，所述有机介质层在做所述磁控溅射PVD镀之前，经过表面活化和清洁处理；所述透明粉层为在所述金属镀膜层上喷涂透明粉形成。本发明提供的金属表面保护层及其制备方法，提高了有机介质层与金属镀膜层之间的附着力。
- 一种多元高熵合金薄膜的制备方法-201910280504.6
- 宋忠孝;从中浩;宋宝睿;李雁淮;李茜 - 西安交通大学
- 2019-04-09 - 2019-07-09 - C23C14/16
- 本发明公开了一种多元高熵合金薄膜的制备方法，包括步骤：将硅片基底清洗；将清洗好的硅片基底吹干；将硅片基底置于进样室进行反溅；将硅片基底传入溅射室内，所需金属单质靶材分别置于靶盘上，加热烘烤腔体，抽真空；通入Ar气，将靶材接入电源，设置溅射功率和偏压，调整工作气压，预溅射；打开硅片基底挡板，之后打开自转，开始溅射；溅射结束，依次关闭电源，偏压，停止通入氩气，之后继续抽真空，后取出冷却的硅片基底，基底上既能得到该耐腐蚀高熵合金薄膜。本发明溅射速率稳定，获得厚度均匀的耐腐蚀高熵合金薄膜材料；制备过程中使用单质金属靶材，降低了高熵合金薄膜的制备成本；操作简单，极大推广耐腐蚀高熵合金薄膜的应用。
- 一种Pd纳米颗粒表面修饰ZnO纳米线气敏材料的制备方法-201710006941.X
- 曹培江;杨志博;朱德亮;吕有明;刘新科 - 深圳大学
- 2017-01-05 - 2019-06-21 - C23C14/16
- 本发明涉及气敏材料领域，尤其涉及一种Pd纳米颗粒表面修饰ZnO纳米线气敏材料的制备方法。该方法主要包括以下步骤：用电阻式热蒸发的方法在SiO2/Si衬底上沉积一层Au膜；用化学气相沉积的方法在所述Au膜上生长ZnO纳米线，得到ZnO纳米线阵列；用物理气相沉积的方法在所述ZnO纳米线的表面包覆一层Pd膜，得到包覆有Pd膜的ZnO纳米线阵列样品；将包覆有Pd膜的所述ZnO纳米线阵列样品放置在高温管式炉中进行高温退火，得到Pd纳米颗粒表面修饰ZnO纳米线气敏材料。与传统的化学方法相比，该方法制备得到的样品Pd纳米颗粒粒径均一、数量多且制备可控。
- 真空镀膜机及复合涂层的镀膜方法-201910012476.X
- 朱国朝;袁安素 - 纳狮新材料（浙江）有限公司
- 2019-01-07 - 2019-06-07 - C23C14/16
- 本揭露涉及一种真空镀膜机及复合涂层的镀膜方法。一种真空镀膜机，包括：腔体；真空抽气装置用于使腔体内形成真空环境；工件架设置于腔体内以用于承载待处理模具；驱动装置用于驱动工件架转动；加热器设置于腔体内且与腔体绝缘并对待处理模具加热；一或多个矩形多弧阴极离子源设置于腔体内，矩形多弧阴极离子源包括阴极座体和靶材，阴极座体与腔体绝缘，靶材设置于阴极座体内表面；阳极盘部分设置于腔体内且与腔体绝缘；空心阴极离子源与阳极盘相对应且部分设置于腔体内；空心阴极电源，其中阳极盘与空心阴极电源的阳极电连接，空心阴极离子源与空心阴极电源的阴极电连接；空心阴极电源使阳极盘和空心阴极离子源之间产生电子和电场。
- 氢燃料电池金属双极板及其制备方法-201910124594.X
- 周科;秦子威;汪宏斌;陈卓 - 金华市畔星科技有限公司
- 2019-02-20 - 2019-06-07 - C23C14/16
- 本发明公开了一种氢燃料电池金属双极板及其制备方法，包括表面带镀层的金属双极板，所述镀层由金属双极板表面向外依次为银镀层、TiCrN镀层及石墨镀层。本发明具有优异的导电性能和耐腐蚀性能，接触电阻低，膜基结合力好，导热性能好。
- 具有高垂直偏置场及大翻转场平台的复合多层膜结构-201710717721.8
- 王可;徐展;王亚宏 - 华侨大学
- 2017-08-21 - 2019-06-04 - C23C14/16
- 本发明公开了一种具有高垂直偏置场及大翻转场平台的复合多层膜结构及其制备方法，由亚铁磁稀土‑过渡合金薄膜I、非磁金属隔离层和亚铁磁稀土‑过渡合金薄膜II依次生长而成；薄膜I是XFeCo硬磁合金材料，厚度为7.5‑30nm，其中X是稀土元素Tb或Dy且原子百分比不低于25.5％；薄膜II是GdFeCo软磁合金材料，厚度为7.5‑30nm，其Gd元素的原子百分比不高于24.5％；薄膜I和薄膜II的易磁化方向均垂直膜面。薄膜I和II富相相反，可以产生稳定的反铁磁耦合结构，利用隔离层的部分退耦及层间交换耦合作用，不需场冷处理就可在该硬/软复合多层膜材料中产生较高的垂直偏置场及大的翻转场平台，可作为垂直巨磁阻或自旋阀的核心结构材料应用到垂直磁电器件中。
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