[发明专利]一种三通硅基分束器芯片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201910944669.9 申请日: 2019-09-30
公开(公告)号: CN110646883B 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 曾和平;冯吉军;吴昕耀 申请(专利权)人: 华东师范大学重庆研究院;上海朗研光电科技有限公司;上海理工大学;华东师范大学
主分类号: G02B6/125 分类号: G02B6/125;G02B6/13
代理公司: 重庆华科专利事务所 50123 代理人: 康海燕
地址: 401121 重庆市渝北*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开一种三通道硅基分束器芯片,包括一个输入波导、三个输出波导和设置在所述输入波导和所述输出波导之间的耦合区;所述耦合区为正方形;所述输入波导和所述输出波导的宽度相等,所述宽度为K:490nmK510nm;所述耦合区、所述输入波导和所述输出波导的厚度均相等,所述厚度为H:210nmH230nm;所述耦合区的边长长度为L:1600nmL2000nm。本发明的三通道硅基分束器芯片,集成度更高,器件尺寸小,提高了波前重构设备的便携性。
搜索关键词: 一种 三通 硅基分束器 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种三通道硅基分束器芯片,其特征是:包括一个输入波导(1)、三个输出波导(2)和设置在所述输入波导(1)和所述输出波导(2)之间的耦合区(3);所述耦合区(3)为正方形;/n所述输入波导(1)和所述输出波导(2)的宽度相等,所述宽度为K:490nm<K<510nm;所述耦合区(3)、所述输入波导(1)和所述输出波导(2)的厚度均相等,所述厚度为H:210nm<H<230nm;所述耦合区(3)的边长长度为L:1600nm<L<2000nm。/n
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