[实用新型]高压功率二极管有效

专利信息
申请号: 201920050378.0 申请日: 2019-01-11
公开(公告)号: CN209561417U 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 金钟珉;郑泰岭 申请(专利权)人: DBHiTek株式会社
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06
代理公司: 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 代理人: 余文娟
地址: 韩国首尔*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 高压功率二极管包括:P型半导体衬底;设置在半导体衬底上的P型外延层;设置在外延层下部、沿水平方向延伸的N型隔离层;设置在外延层上表面的氧化物隔离层,氧化物隔离层将外延层限定为阳极区和阴极区;设置在外延层上表面上且在阳极区中的N型导电性第一阱,其配置成电连接到阳极端子;设置在外延层上表面上且在阴极区中的P型导电性第二阱,其配置为电连接到阴极端子;设置在外延层的上表面上和第二阱在水平方向间隔开的保护环结构,该保护环结构包括第三阱和与阳极端子电连接的护环端子,第三阱具有水平方向布置的N型导电性第一子阱、P型导电性第二子阱和N型导电性第三子阱;以及设置在外延层上表面的与保护环结构水平间隔的P‑子区。
搜索关键词: 外延层 上表面 电连接 环结构 子阱 氧化物隔离层 二极管 高压功率 阳极端子 阳极区 阴极区 衬底 水平方向布置 水平方向间隔 水平方向延伸 水平间隔 阴极端子 隔离层 护环 配置 子区 半导体
【主权项】:
1.高压功率二极管,其特征在于,包括:P型半导体衬底;P型外延层,其设置在所述半导体衬底上;N型隔离层,其设置在所述外延层的下部,所述隔离层沿水平方向延伸;氧化物隔离层,其设置在所述外延层的上表面,所述氧化物隔离层将所述外延层限定为阳极区和阴极区;N型导电性的第一阱,其设置在所述外延层的上表面上且在所述阳极区中,所述第一阱配置成电连接到阳极端子;P型导电性的第二阱,其设置在所述外延层的上表面上且在所述阴极区中,所述第二阱配置为电连接到阴极端子;保护环结构,其设置在所述外延层的上表面上且与第二阱在水平方向上间隔开,所述保护环结构包括第三阱和与所述阳极端子电连接的护环端子,所述第三阱具有沿水平方向布置的N型导电性的第一子阱、P型导电性的第二子阱和N型导电性的第三子阱;以及P‑子区,其设置在所述外延层的上表面以与所述保护环结构水平间隔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于DBHiTek株式会社,未经DBHiTek株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920050378.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top