[发明专利]光学邻近矫正方法及相关装置、掩模板在审

专利信息
申请号: 202010071766.4 申请日: 2020-01-21
公开(公告)号: CN113219783A 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 程锋;李亮;杜杳隽 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 代理人: 李丽
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明实施例提供了一种光学邻近矫正方法及相关装置、掩模板,方法包括根据主图形的设置和预定的插入规则,插入初始辅助图形,得到初始掩模板图形;查找初始掩模板图形中的问题主图形,并记问题主图形的查找次数加1;确定各个问题主图形的可删除初始辅助图形和替换辅助图形,删除可删除初始辅助图形,插入并冻结替换辅助图形,得到替换掩模板图形,直至查找次数达到预定次数或者在替换掩模板图形中不能找到问题主图形,得到目标掩模板图形,其中,替换辅助图形到问题主图形的投影系数大于或等于投影系数阈值。本发明实施例可以为提高辅助图形设置的合理性,以满足光学邻近矫正的要求。
搜索关键词: 光学 邻近 矫正 方法 相关 装置 模板
【主权项】:
暂无信息
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