[发明专利]氯唑西林钠的制备工艺有效
申请号: | 202010082794.6 | 申请日: | 2020-02-07 |
公开(公告)号: | CN111205305B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 沈灏;李京喜;吴永锋;唐鹤鸣;华军杰;张昕 | 申请(专利权)人: | 山东二叶制药有限公司 |
主分类号: | C07D499/12 | 分类号: | C07D499/12;C07D499/20;C07D499/76 |
代理公司: | 北京鼎承知识产权代理有限公司 11551 | 代理人: | 田恩涛;柯宏达 |
地址: | 274000 山东省菏泽市定陶*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本公开提供了一种氯唑西林钠的制备工艺,包括以下步骤:将6‑氨基青霉烷酸与10%的氢氧化钠反应生成6‑氨基青霉烷酸钠;使6‑氨基青霉烷酸钠与邻氯苯甲异恶唑甲酰氯发生缩合反应;然后加入稀硫酸酸化;并加入成盐剂异辛酸钠生成氯唑西林钠;过滤结晶得到产物氯唑西林钠。 | ||
搜索关键词: | 西林 制备 工艺 | ||
【主权项】:
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- 专利分类
C07 有机化学
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
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