[发明专利]一种插拔式扩束接触件的结构及制作工艺在审

专利信息
申请号: 202010505521.8 申请日: 2020-06-05
公开(公告)号: CN111474638A 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 李虎;陈惠钦;马永会;金新刚 申请(专利权)人: 上海航天科工电器研究院有限公司
主分类号: G02B6/38 分类号: G02B6/38;G02B6/32
代理公司: 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200331 上海市普陀*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种插拔式扩束接触件的结构及制作工艺。本发明采用插拔式结构,将扩束组件及扩束耦合部分分开制作,用定焦片机械结构保证耦合精度,将制作好的扩束组件和带定焦片插芯的扩束耦合部分用胶封固定,完成扩束插芯制作。本发明扩束耦合部分的定焦片采用装配工艺来保证,这样能很大程度的提高扩束接触件的生产效率,能实现光纤连接器现场作业的要求。本发明在扩束组件的端面增加了耐磨片,能有效解决接触件端面不耐磨的问题,在扩束组件中采用了球透镜,能极大降低扩束接触件的制造成本。本发明解决了扩束光纤接触件现场不能作业的问题,提高了扩束接触件的耦合效率,降低了成本,提高了扩束接触件的可靠性。
搜索关键词: 一种 插拔式扩束 接触 结构 制作 工艺
【主权项】:
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