[发明专利]用于监督后处理的系统和方法在审

专利信息
申请号: 202080078955.2 申请日: 2020-11-16
公开(公告)号: CN114641353A 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: K·斯塔德曼 申请(专利权)人: 登士柏西诺德公司;西诺德牙科设备有限公司
主分类号: B08B3/10 分类号: B08B3/10;B29C64/124;B29C64/245;B29C64/393;B29C71/00;B33Y30/00;B29C64/35;B33Y40/20;B33Y50/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘艺诗;周学斌
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于主体(2)的清洁和/或后暴露的系统(1)和方法,所述主体(2)借助于添加制造方法由通过辐射可固化的物质制造,所述系统(1)包括用于清洁主体(2)的清洁罐(13)和/或用于后暴露主体(2)的暴露室,所述系统(1)进一步包括具有用于相对于清洁罐(13)和/或暴露室移动构建平台(3)的驱动器(17)的传送设备(4),传送设备(4)包括力传感器(18),力传感器(18)被配置为捕获作用在构建平台(3)上的力并提供力信号,并且被连接到处理单元(19),用于控制驱动器(17)和/或用于基于力信号输出过程参数;并且,作为该方法的一部分,构建平台(3)上的主体(2)通过包括驱动器(17)的传送设备(4)相对于清洁罐(13)和/或暴露室移动,并且在清洁和/或后暴露期间和/或之后,使用提供力信号的力传感器(18)捕获作用在构建平台(3)上的力,并且连接到力传感器(18)的处理单元(19)基于力信号控制驱动器(17)和/或输出过程参数。
搜索关键词: 用于 监督 处理 系统 方法
【主权项】:
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