[发明专利]一种化学机械研磨抛光垫整修器及其制备方法在审
| 申请号： | 202110573678.9 | 申请日： | 2021-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN113172553A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;陈石;廖培君 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B24D18/00 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械研磨抛光垫整修器及其制备方法，所述抛光垫整修器包括基座，所述基座设置有至少一个凹槽，所述凹槽内部设置有研磨区块，所述研磨区块外表面设置有凸起磨粒，所述区块的厚度不小于所述凹槽的深度。所述整修器通过研磨区块和基座的组合设计，可以通过更换区块来实现整修器与工况的匹配，增加了整修器的使用灵活性，降低了整修器的使用成本。且整修器整体硬度高、耐磨、耐腐蚀，且研磨面凸起的磨粒可以通过加工工艺有效控制，从而保证整修器的修整效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械 研磨 抛光 整修 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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