[发明专利]一种高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 202110678618.3 | 申请日： | 2021-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN113185138B | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 章建辉;施泽宇;顾明 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | C03C17/27 | 分类号： | C03C17/27;C01G53/04;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 210008 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高活性纳米晶NiO薄膜的制备方法，包括以下步骤：(1)通过层层自组装方法在衬底上制备NiO前驱物薄膜；(2)将NiO前驱物薄膜放在紫外光下照射，利用紫外光分解NiO前驱物薄膜中的有机物并使NiO结晶成纳米颗粒，制得高活性纳米晶NiO薄膜。本发明利用紫外光照射和层层自组装相结合的方法，制备高活性NiO纳米薄膜，方法简单，廉价，不需要复杂的设备，所制备的NiO薄膜具有高度活性，电致变色效能在500nm波长处高达67％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 活性 纳米 nio 薄膜 制备 方法 | ||
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