[发明专利]一种中间修饰层改善Zr基MOF膜制备的方法及其正渗透应用有效
| 申请号： | 202210149307.2 | 申请日： | 2022-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN114471200B | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 王栋;杨文涛;董应超;赵志育;孙阔 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | B01D71/76 | 分类号： | B01D71/76;B01D71/56;B01D71/02;B01D69/12;B01D67/00;B01D65/10;B01D61/00 |
| 代理公司： | 大连星海专利事务所有限公司 21208 | 代理人： | 杨翠翠 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种中间修饰层改善Zr基MOF膜制备的方法及其正渗透应用，其属于环境膜分离技术领域。引入纳米复合二氧化钛中间层，改善了支撑层的表面性质，为界面聚合提供良好的生长条件，同时引入新型多孔纳米材料MOF‑801、UiO‑66，生长出更为致密的聚酰胺层，多孔的MOF‑801和UiO‑66材料为水和溶剂分子的传输提供了额外的低阻力传输通道，提高了水通量和有机溶剂通量，同时聚酰胺膜、MOF‑801和UiO‑66适当的孔径都有效地阻挡盐离子的通过，从而降低了反向盐通量，可以有效解决膜渗透性与选择性权衡问题。为了进一步提高膜的渗透性和稳定性，开发了纯UiO‑66膜（Defect‑free‑UiO‑66和ML‑UiO‑66），用于正渗透过程，取得了显著成效。为正渗透膜活性层的结构设计提供了新思路和新方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 中间 修饰 改善 zr mof 制备 方法 及其 渗透 应用 | ||
【主权项】：
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