[发明专利]一种蒸镀坩埚及蒸镀系统有效

专利信息
申请号: 202210168538.8 申请日: 2022-02-23
公开(公告)号: CN114481038B 公开(公告)日: 2023-09-01
发明(设计)人: 星光;杨增乾;黄正峰;孙福坤;彭俊林;李震芳;宋星星;冯耀耀;金童燮;张志华 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/04;C23C14/54;H10K71/16
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 230012 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种蒸镀坩埚和蒸镀系统。所述蒸镀坩埚包括:坩埚本体,包括底壁和所述侧壁围成的具有开口的容纳腔;设置在所述容纳腔内的网板组件,所述网板组件包括第一网板和第二网板,二者之间具有避让间隙,所述第一网板设置有至少一个第一网孔;所述第二网板包括开口部,所述开口部设置有至少一个第二网孔,在垂直于所述底壁的平面上,所述开口部的截面包括至少一个开口朝向所述底壁或者背离所述底壁的开口单元,所述开口单元为V形或者梯形;喷嘴,设置在所述容纳腔的开口处,所述喷嘴开设有喷气孔。本公开实施例中,通过增加梯形或V形开口的网板,使得气流通过两层网板之间的气孔通道产生类似涡流效应,从而减少喷溅,避免暗点不良和损坏掩膜版等。
搜索关键词: 一种 坩埚 系统
【主权项】:
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