[发明专利]均匀抽气结构、真空腔室、薄膜制备装置及方法

摘要

本发明提供了一种均匀抽气结构、一种真空腔室、一种薄膜制备装置、一种薄膜制备方法、一种晶圆，以及一种电子器件。所述均匀抽气结构包括晶圆支撑座及抽气挡板。所述晶圆支撑座安装于真空腔室内部，其下部边缘设有向上翻起的弯折结构。抽气挡板设于所述真空腔室的抽气口，其横向尺寸为所述弯折结构的外侧横向尺寸与内侧横向尺寸的均值。所述抽气挡板伸入所述弯折结构，以将所述弯折结构分为两段弯折的抽气通道。所述真空腔室内部的气体依次经过所述两段弯折的抽气通道以排出所述真空腔室。