[发明专利]氮化硅烧结体、耐磨性构件及氮化硅烧结体的制造方法在审

专利信息
申请号: 202280016625.X 申请日: 2022-03-28
公开(公告)号: CN116964021A 公开(公告)日: 2023-10-27
发明(设计)人: 大久保和也 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝高新材料公司
主分类号: C04B35/596 分类号: C04B35/596
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 实施方式的氮化硅烧结体的特征在于,其具备氮化硅结晶粒子及晶界相,在对上述氮化硅烧结体的中心截面中的20μm×20μm的区域进行拉曼光谱分析的情况下,在780cm‑1~810cm‑1及1340cm‑1~1370cm‑1的范围内检测到2个以上的峰,在170cm‑1~190cm‑1、607cm‑1~627cm‑1、720cm‑1~740cm‑1、及924cm‑1~944cm‑1的范围内检测到4个以上且6个以下的峰。
搜索关键词: 氮化 烧结 耐磨性 构件 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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