[发明专利]基于反卷积方法的穿透散射介质量子成像系统在审
| 申请号： | 202310182312.8 | 申请日： | 2023-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN116337818A | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 张子静;李家欢;赵远;宋杰 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G01N21/55 | 分类号： | G01N21/55;G01N21/01;G01S17/89;G01S7/48;A61B5/00;G02B27/00;G06N3/0464;G06N3/084 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江联合专利商标代理有限公司 23213 | 代理人： | 张利明 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 基于反卷积方法的穿透散射介质量子成像系统，属于光学成像领域，本发明为解决量子成像受到散射介质干扰而发生图像畸变的问题。本发明包括光束发射部、光束接收部和散射介质；光束发射部发射的光束经散射介质到达成像目标表面，再从成像目标表面反射穿透散射介质，回波光束被接收光学部接收并成像；首先，光束发射部利用空间光调制器调制产生点源光束，光束接收部获得穿透散射介质量子成像系统的点扩散函数；然后，光束发射部利用空间光调制器调制产生轨道角动量光束，光束接收部获得穿透散射介质量子成像系统的畸变图像；将点扩散函数和畸变图像一起输入到反卷积模块中解算，重建出隐藏在散射介质后面的目标图像。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 卷积 方法 穿透 散射 介质 量子 成像 系统 | ||
【主权项】：
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