[发明专利]半导体器件及其制造方法在审
申请号: | 202310675056.6 | 申请日: | 2023-06-07 |
公开(公告)号: | CN116960733A | 公开(公告)日: | 2023-10-27 |
发明(设计)人: | 程宗鸿;李亮;向上;熊永华;李海涛;马卫东 | 申请(专利权)人: | 武汉光迅科技股份有限公司 |
主分类号: | H01S5/12 | 分类号: | H01S5/12 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 肖佳敏;浦彩华 |
地址: | 430205 湖北省武汉市武汉东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本公开实施例提供了一种半导体器件及其制造方法,其中,半导体器件包括:基底,用于产生光波;光栅层,位于基底上,光栅层包括沿平行于基底所在平面的方向并列设置的第一光栅和第二光栅;其中,第一光栅具有第一周期,第二光栅具有第二周期,第一周期不同于第二周期,且第一周期和第二周期中的至少一个位于目标周期范围内;第一光栅和第二光栅中周期位于目标周期范围内的光栅用于从所述光波中分离出具有目标波长的光波。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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