[发明专利]一种硅铝靶材及其制备方法在审
| 申请号： | 202310925167.8 | 申请日： | 2023-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN116904911A | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | 文崇斌;朱刘;童培云 | 申请（专利权）人： | 先导薄膜材料（广东）有限公司 |
| 主分类号： | C23C4/134 | 分类号： | C23C4/134;C23C14/34;C23C14/14;C23C4/06;B22F9/04;B22F1/14;B22F1/145;B22F1/142 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 柯梦云 |
| 地址： | 511517 广东省清*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种硅铝靶材及其制备方法，属于靶材制备技术领域。本发明所述硅铝靶材的制备方法不同于现有技术，先将硅粉和铝粉进行特定预处理得到均匀的硅铝合金，随后再将硅铝合金破碎成粉末进行等离子喷涂最终得到硅铝靶材，该产品的不仅对设备的要求低，可实现规模生产，同时还有效解决了现有等离子喷涂制备硅铝靶材中铝元素损失且分布不均匀的问题，硅铝靶材不同位点的铝元素分布误差最低只有0.2wt％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅铝靶材 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
