[发明专利]曲面补偿膜及曲面补偿膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202310930787.0 申请日: 2023-07-26
公开(公告)号: CN116931325A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 安志强;怀和 申请(专利权)人: 成都瑞波科材料科技有限公司
主分类号: G02F1/13363 分类号: G02F1/13363;G02F1/1337;G02F1/1347
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 周永强
地址: 610037 四川省成都市高新*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本申请公开了一种曲面补偿膜及曲面补偿膜的制备方法,涉及液晶显示技术。一种曲面补偿膜,包括:曲面基底、配向层、第一液晶层和第二液晶层;所述曲面基底包括内凹面,所述配向层设于所述内凹面,所述第一液晶层设于所述配向层背离所述内凹面的一侧,所述第二液晶层设于所述第一液晶层背离所述配向层的一侧;所述第一液晶层具有水平平面内同一配向方向,所述第二液晶层具有垂直于所述水平平面的螺旋结构。本申请可以改良曲面屏的显示品质,并降低多层补偿膜的贴敷次数,使得在制造操作、成本还是良率方面均得到有效提升。
搜索关键词: 曲面 补偿 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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