[发明专利]一种五轴调节装置及曝光系统在审
| 申请号： | 202311111065.9 | 申请日： | 2023-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN116841136A | 公开（公告）日： | 2023-10-03 |
| 发明（设计）人： | 黄征;张振刚;张晓芳;杜建科;薛书亮;李玉洁;朱林兵 | 申请（专利权）人： | 光科芯图（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 王晨 |
| 地址： | 102399 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉芯片制备技术领域和光刻技术领域，具体涉及一种五轴调节装置及曝光系统。一种五轴调节装置，包括高度调节组件，高度调节组件包括相对设置的第一底板和第一顶板；所述第一底板上设有滑动柱，所述第一顶板内穿设有滑动柱，所述第一底板和第一顶板间设有至少一个斜向滑轨对，所述斜向滑轨对包括斜向滑槽和与所述斜向滑槽适配的斜向导轨，所述斜向导轨与第一顶板固定连接，沿水平方向朝向斜向导轨施加力带动斜向导轨进行移动，以使第一顶板沿滑动柱的中心轴线上升或下降。本发明解决针对曝光操作相关结构的位姿调节结构在高度等方向调节上无法有效兼顾调节精度、防止干扰以及投入成本的问题，从而提供一种五轴调节装置及曝光系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调节 装置 曝光 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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