[发明专利]掩模版优化方法、装置及曝光设备在审
| 申请号： | 202311197950.3 | 申请日： | 2023-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN116931363A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 和琨;牛志元;菅彦彬;杜德川;韦炳威 | 申请（专利权）人： | 光科芯图（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 胡晓静 |
| 地址： | 102399 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及计算光刻技术领域，公开了掩模版优化方法、装置及曝光设备，包括：获取初始图形区域、初始平面与全息面，初始图形区域位于初始平面上；基于初始图形区域，在全息面上划分得到第二图形区域；根据全息面的全息透射率分布，确定第二图形区域的对应的全息二值振幅掩模版，实现掩模优化。本发明通过在原掩模版上设置零透过光区域，在未增加任何计算复杂度及加工制造难度的情况下，减弱了零级衍射光对重建像的影响，提高了重建质量。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 优化 方法 装置 曝光 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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- 王小光;谢庆丰 - 深圳市科利德光电材料股份有限公司
- 2022-05-23 - 2022-10-04 - G03F1/68
- 本实用新型实施例提供一种光罩局部显影辅助装置，包括：悬空设置以在下方形成用于供待显影光罩放置及移动的放置区域的承载支架；组装于承载支架上用于供操作人员查找及观察待显影光罩表面的待显影区域的显微镜；组装于承载支架上用于向待显影区域供应显影液的液滴供应器；以及组装于承载支架上用于从显影完成后的待显影区域吸取残留显影液的残液吸取器。本实施例避免通过肉眼直接查找，减小劳动强度，并提高精确度，然后液滴供应器向待显影区域供应显影液，对其进行显影，同时可借助显微镜对待显影区域进行观察，残液吸取器直接将残留的显影液吸附带走，保证光罩显影的有效性。
- 一种掩膜版自动制程装置-202221678020.0
- 周荣梵;林超 - 成都路维光电有限公司
- 2022-07-01 - 2022-09-20 - G03F1/68
- 本实用新型公开了一种掩膜版自动制程装置，属于半导体掩膜版制造技术领域，用以替代人力进行掩膜版的制作，该装置包括制程槽、横梁和夹具；横梁与制程槽活动连接，横梁配置有动力机构；夹具可拆卸连接于横梁，用于夹持掩膜版；工作状态下，横梁在动力机构的作用下带动夹具于制程槽液中往复运动。本实用新型能够实现掩膜版在制程槽液中自动往复运动，且运动频率、速率可控，能够提高掩膜版的良率，利于掩膜版品质的精细控制。
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
