[发明专利]新的噻吩并噻嗪衍生物无效

专利信息
申请号: 94119307.1 申请日: 1994-12-13
公开(公告)号: CN1109059A 公开(公告)日: 1995-09-27
发明(设计)人: D·宾德;J·温博格 申请(专利权)人: 化学药物研究协会
主分类号: C07D495/02 分类号: C07D495/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 黄革生
地址: 奥地*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及具有通式(1)的新的噻吩并噻嗪衍生物及其可作药用的盐。
搜索关键词: 噻吩 衍生物
【主权项】:
1、通式(Ⅰ)所示的新的噻吩并噻嗪衍生物及其可作药用的盐:其中:A为低级烷基,全氟化低级烷基,低级烷氧基,卤素,硝基,氰基或非限制性地部分氢化的5-12元单环或多环芳基或具有1-4个杂原子如O、S和N的杂芳基,它可被低级烷基、全氟低级烷基、芳基、杂芳基、取代芳基、取代杂芳基、卤素、低级烷氧基、芳氧基、取代芳氧基、杂芳氧基、取代杂芳氧基和硝基非限制性地取代,其中,取代芳基、取代杂芳基、取代芳氧基及取代杂芳氧基中的取代基为卤素、低级烷基、全氟低级烷基、低级烷氧基等;D为2-吡啶基下式残基:其中X和Y各自独立地为CH、NR6、O或S,R6为氢或低级烷基,M为一单键、具有1-12个碳原子的直链或支链碳链,该链可含有一个或多个双链和/或三键和/或一个或多个O、S或N等杂原子,或为非限制性氢化的5-12元单环或多环芳基或带有1-4个杂原子如O、S或N的杂芳基,它可被卤素、低级烷基或低级烷氧基取代;Q为一个单键或O、S或N等杂原子;R为氢、具有1-4个O、S或N等杂原子的5-12元单环或多环芳基或杂芳基,它可被部分氢化,或者也可被卤素、低级烷基或低级烷基或低级烷氧基一次或多次取代;R1为氢或其中R2为低级烷基,R3为低级烷基、芳基或-OR4,R4为低级烷基、具有4-8个碳原子的环烷基或芳基。
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