[实用新型]一种屏幕镀膜结构及具有其的触摸屏

说明书

本实用新型公开了一种屏幕镀膜结构及具有其的触摸屏，涉及显示元件加工技术领域；屏幕镀膜结构包括基材和依次设置在基材上的TiOx镀膜层、第一Cu‑Ni合金镀膜层、Cu镀膜层和第二Cu‑Ni合金镀膜层；TiOx镀膜层通过靶材溅射设置在基材上，第一Cu‑Ni合金镀膜层通过靶材溅射设置在TiOx镀膜层上，Cu镀膜层通过靶材溅射设置在第一Cu‑Ni合金镀膜层上，第二Cu‑Ni合金镀膜层通过靶材溅射设置在Cu镀膜层上。本实用新型利用第一Cu‑Ni合金层对基材和Cu镀膜层进行二次衔接，通过Ni与其他材料的亲和特性，提升附着力；通过第一Cu‑Ni合金层对Cu镀膜层进行外层包覆，利用Cu‑Ni合金自身的抗氧化能力，防止产品氧化，提升产品的寿命。

技术领域

本实用新型涉及显示元件加工技术领域，具体涉及一种屏幕镀膜结构及具有其的触摸屏。

背景技术

现有电容式触摸屏的ITO膜的边框一般为银浆线条，通过丝网印刷的方式加工出线条，但受限于丝网印刷的精度，其线条的线宽/线距(L/S)为80/80微米；此种结构的触摸屏边框比较大，屏占比小。为了扩大屏占比，缩窄触摸屏的边框，需要实现L/S为40/40微米或30/30微米甚至是20/20微米。

因而，不能采用银浆丝网印刷的方式，需要在镀膜时，在ITO的表面加上一层金属导电层，如Cu或含Cu的复合层或含Al的复合层。然而，现行的ITO-Cu复合膜容易出现膜层附着力不良和易氧化现象。

实用新型内容

本实用新型的第一目的在于提供一种屏幕镀膜结构，以解决现有的镀膜工艺加镀金属层出现的膜层附着力不佳和易氧化问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的技术方案如下：

一种屏幕镀膜结构，包括基材，在所述基材上依次设置有TiOx镀膜层、第一Cu-Ni合金镀膜层、Cu镀膜层和第二Cu-Ni合金镀膜层；

其中，所述TiOx镀膜层通过靶材溅射设置在所述基材上，所述第一Cu-Ni合金镀膜层通过靶材溅射设置在所述TiOx镀膜层上，所述Cu镀膜层通过靶材溅射设置在所述第一Cu-Ni合金镀膜层上，所述第二Cu-Ni合金镀膜层通过靶材溅射设置在所述Cu镀膜层上。

根据本实用新型提供的屏幕镀膜结构，利用第一Cu-Ni合金层对基材和Cu镀膜层进行二次衔接，通过Ni与其他材料的亲和特性，提升附着力；通过第一Cu-Ni合金层对Cu镀膜层进行外层包覆，利用Cu-Ni合金自身的抗氧化能力，防止产品氧化，提升产品的寿命。

另外，根据本实用新型上述实施例的屏幕镀膜结构，还可以具有如下附加的技术特征：

根据本实用新型的一个示例，所述Cu镀膜层镀膜包括第一层级、第二层级和第三层级；

其中，所述第一层级通过靶材溅射设置在所述Cu-Ni合金镀膜层上；所述第二层级通过靶材溅射设置在所述第一层级上；所述第三层级通过靶材溅射设置在所述第二层级上；

所述第二Cu-Ni合金镀膜层通过靶材溅射设置在所述第三层级上。

根据本实用新型的一个示例，所述第一层级厚度为30-50nm；所述第二层级厚度为50-200nm；所述第三层级厚度为50-300nm。

根据本实用新型的一个示例，在所述基材和所述TiOx镀膜层之间还设置有ZrOx镀膜层和ITO镀膜层；

所述ZrOx镀膜层通过靶材溅射设置在所述基材上；

所述ITO镀膜层通过靶材溅射设置在所述ZrOx镀膜层上；

所述TiOx镀膜层通过靶材溅射设置在所述ITO镀膜层上。

根据本实用新型的一个示例，所述ZrOx镀膜层中的x为0.8-0.99。