[发明专利]电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体无效

专利信息
申请号: 01116803.X 申请日: 2001-03-02
公开(公告)号: CN1321973A 公开(公告)日: 2001-11-14
发明(设计)人: 安芸佑一;近藤高男;武田实;山本真伸;增原慎;柏木俊行 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B9/10 分类号: G11B9/10
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杜日新
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体,其能够有效地避免电子束的散射并避免提供大规模的真空室。电子束照射装置包括支持受电子束照射体(3)的支持部分(4);经微小间隔与电子束照射体相对的电子束照射头(6),电子束照射头具有电子束发射孔(5)。在电子束照射头中提供与电子束发射孔(5)相通的电子束路径(20),此外,围绕电子束发射孔形成一个或多个从面对电子束照射体的电子束照射头的表面开口的环形吸气槽(61)和(62)。真空泵连接于电子束路径和环形吸气槽,把电子束路径维持在高真空状态。
搜索关键词: 电子束 照射 装置 方法 原版 记录 媒体
【主权项】:
1.一种电子束照射装置,其特征在于所述电子束照射装置包括:用于支持要用电子束照射的电子束照射体的支持部分和经微小间隔与所述电子束照射体相对的头,所述头具有电子束发射孔,用于使电子束照射所述电子束照射体,在所述电子束照射头上,围绕与所述电子束发射孔相通的电子束路径形成从面对所述电子束照射体的所述电子束照射头的表面开口的至少一个环形吸气槽,抽气装置,连接于所述电子束路径和所述环形吸气槽,并且把所述电子束路径维持在高真空状态。
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