[发明专利]莫达非尼旋光对映异构体的晶形及其制备方法有效
| 申请号： | 200380109813.4 | 申请日： | 2003-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN1751021A | 公开（公告）日： | 2006-03-22 |
| 发明（设计）人： | O·内克布洛克;L·库瓦西耶;S·格拉夫;G·塞吕勒;G·科克雷尔;S·罗斯;C·贝瑟利耶夫尔;F·马莱;A·J·范朗热韦尔德 | 申请（专利权）人： | 塞弗伦法国公司;欧西蒙德世界合成组织 |
| 主分类号： | C07C317/50 | 分类号： | C07C317/50;C07C315/06;A61K31/165;A61P25/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 程泳 |
| 地址： | 法国迈*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备莫达非尼旋光对映异构体的晶形的方法，包括下列步骤：i)将莫达非尼其中一个旋光对映异构体溶于除乙醇之外的溶剂中；ii)使莫达非尼的对映异构体结晶；iii)回收所得莫达非尼对映异构体的晶形。本发明还涉及一种制备莫达非尼旋光对映异构体的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 莫达非尼旋光 映异构体 晶形 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.用于制备莫达非尼旋光对映异构体的晶形的方法，包括下列步骤：i)将其中一个莫达非尼旋光对映异构体溶于除乙醇之外的溶剂中，ii)使莫达非尼的对映异构体结晶，iii)回收所得莫达非尼对映异构体的晶形。
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