[发明专利]氧同位素浓缩方法无效

专利信息
申请号: 200480005725.4 申请日: 2004-03-02
公开(公告)号: CN1756586A 公开(公告)日: 2006-04-05
发明(设计)人: 林田茂 申请(专利权)人: 大阳日酸株式会社
主分类号: B01D59/34 分类号: B01D59/34
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种浓缩氧同位素方法,该方法包括用特定的光照射臭氧,从而选择性地分解包含氧同位素的臭氧,并且将通过臭氧分解形成的氧和未分解的臭氧分离,以浓缩所分离出的氧中的氧同位素。一种浓缩氧同位素的系统,该系统包括设备(11),用于从原料氧形成臭氧;臭氧分离设备(12),用于分离臭氧形成设备中形成的臭氧和原料氧;臭氧光解离设备(13),用于用特定波长的光照射臭氧分离设备(12)分离出的臭氧,以选择性地分解分子中包含氧同位素的臭氧;以及氧分离设备,用于通过臭氧分解将臭氧光解离设备(13)中形成的氧和未分解的臭氧分离,从而浓缩氧中的氧同位素。这种方法可以用简单和便利的设备系统来实行稳定的氧同位素
搜索关键词: 同位素 浓缩 方法
【主权项】:
1、一种氧同位素浓缩方法,该方法包括:(a)臭氧光解离步骤,其中将包含氧同位素17O和/或18O的臭氧分子选择性地光解离成氧分子,从而形成氧分子和未解离的臭氧分子的混合物;和(b)氧同位素浓缩步骤,其中将氧分子从混合物中分离出来,从而浓缩氧同位素。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大阳日酸株式会社,未经大阳日酸株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480005725.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 钯同位素的奇偶分离电离方法及装置-201680074204.7
  • 小林彻;绿川克美 - 国立研究开发法人理化学研究所
  • 2016-12-16 - 2021-05-18 - B01D59/34
  • 本发明的钯同位素的奇偶分离电离方法及装置利用具有第1波长的第1激光将位于基态能级的钯同位素激发为第1激发能级。使用具有第2波长的第2激光,将第1激发能级的钯同位素激发为第2激发能级。通过第1及第2激发步骤,选择性地将质量数为奇数的钯同位素向第2激发能级激发,在第1激发能级和第2激发能级之间保持该钯同位素的离子核状态的同一性。选择第1波长和第2波长以使第2激发能级成为自电离能级,或在第2激发能级不是自电离能级的情况下,选择第1波长、第2波长和第3波长,以在第3激发步骤使用具有第3波长的第3激光,将第2激发能级的钯同位素激发成自电离能级。
  • 氢及其同位素分子离子解离装置及离解方法-201410161283.8
  • 贾正茂;曾志男;李儒新;徐至展 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2014-04-22 - 2014-07-30 - B01D59/34
  • 一种氢及其同位素分子离子解离装置及离解方法,利用中心波长为200纳米的超短共振紫外脉冲将氢及其同位素分子离子中的电子激发到解离态,然后利用中心波长为25.6微米的太赫兹脉冲(11.7太赫兹)控制解离态上电子的运动,实现对氢及其同位素分子离子解离过程的控制,进而用于化学反应过程的控制。模拟结果表明,对于H2+,本发明可以将99.3%的解离态上的电子控制在选定的核子上,对D2+和T2+而言,本发明可以实现98.9%和98.2%的解离控制率。
  • 使用光纤激光器分离碳和氧同位素的方法和装置-201280057733.8
  • 郑度泳;朴炫敏;车龙镐;郑东龙 - 韩国原子力研究院
  • 2012-07-19 - 2014-07-23 - B01D59/34
  • 本发明提供了使用激光分离碳和氧同位素的方法。根据本发明的一个方面,所述方法包括通过具有340nm至360nm范围内的波长的紫外光的辐照,对包含碳或氧同位素的甲醛进行光解过程,以产生其中富集有碳或氧同位素的一氧化碳和氢气,对所述其中富集有碳或氧同位素的一氧化碳和氢气进行催化反应,以合成其中富集有碳或氧同位素的二氧化碳(CO2)和水(H2O),以及冷却所述H2O以回收其中富集有碳同位素的CO2或其中富集有氧同位素的H2O。
  • 重氧同位素成分的浓缩方法及浓缩装置-200780035464.4
  • 神边贵史;木原均;奈良范久;川上浩 - 大阳日酸株式会社
  • 2007-09-20 - 2009-08-26 - B01D59/34
  • 本发明的重氧同位素成分的浓缩方法包括:将通过臭氧发生器12产生的臭氧和氧供给到填充有稀释气体的蒸馏塔13中,并分离为氧、以及臭氧和稀释气体的第一蒸馏工序;从所述蒸馏塔的塔底将臭氧与稀释气体的混合气体导入到光反应室14中,照射激光而选择性地分解含有重氧同位素成分的臭氧的光解工序;将含有重氧同位素成分的氧和未分解的臭氧返回至所述蒸馏塔,并分离为氧、以及臭氧和稀释气体的第二蒸馏工序;将含有重氧同位素成分的氧通过设置在所述蒸馏塔的塔顶的冷凝器16液化,作为产品氧取出的工序;以及分离氧和稀释气体的第三蒸馏工序。本发明的重氧同位素成分的浓缩方法在一座蒸馏塔13内实施第一至第三蒸馏工序。
  • 氧同位素的浓缩方法及浓缩装置-200680009919.0
  • 巽泰郎;林田茂 - 大阳日酸株式会社
  • 2006-03-03 - 2008-03-26 - B01D59/34
  • 本发明提供了一种即使用气体稀释臭氧后稀释气体会固化的条件下也能够保持小的臭氧浓度,稳定含有氧稳定同位素17O及18O的臭氧并选择性地进行光分解而形成氧,从而有效且连续地浓缩该氧中的17O及18O的方法及装置。在臭氧光分解工序(13)中,对CF4和臭氧的混合气体照射光,将包含在该臭氧中的、含有特定氧同位素的臭氧的同位素异构体选择性地分解为氧。在收集工序(31)中收集获得的混合气体后,在氧同位素浓缩工序(14)中通过低温蒸馏将该混合气体中的氧从未分解的臭氧及CF4中分离,在分离的氧中浓缩所述氧同位素。
  • 氧同位素浓缩方法-200480005725.4
  • 林田茂 - 大阳日酸株式会社
  • 2004-03-02 - 2006-04-05 - B01D59/34
  • 一种浓缩氧同位素方法,该方法包括用特定的光照射臭氧,从而选择性地分解包含氧同位素的臭氧,并且将通过臭氧分解形成的氧和未分解的臭氧分离,以浓缩所分离出的氧中的氧同位素。一种浓缩氧同位素的系统,该系统包括设备(11),用于从原料氧形成臭氧;臭氧分离设备(12),用于分离臭氧形成设备中形成的臭氧和原料氧;臭氧光解离设备(13),用于用特定波长的光照射臭氧分离设备(12)分离出的臭氧,以选择性地分解分子中包含氧同位素的臭氧;以及氧分离设备,用于通过臭氧分解将臭氧光解离设备(13)中形成的氧和未分解的臭氧分离,从而浓缩氧中的氧同位素。这种方法可以用简单和便利的设备系统来实行稳定的氧同位素
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top