[发明专利]具有杂质捕集区域的硅晶圆及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810147017.4 申请日: 2008-08-12
公开(公告)号: CN101649492A 公开(公告)日: 2010-02-17
发明(设计)人: 徐文庆;何思桦;王荣宗;许松林;郭华皓 申请(专利权)人: 昆山中辰硅晶有限公司
主分类号: C30B33/00 分类号: C30B33/00;C30B33/02;H01L21/02
代理公司: 北京天平专利商标代理有限公司 代理人: 孙 刚
地址: 215300江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有杂质捕集区域的硅晶圆及其制造方法。根据本发明的硅晶圆包含一硅切片及一第一杂质捕集区域。该硅切片具有一第一表面。该第一杂质捕集区域形成于该硅切片的该第一表面上,并且通过在该硅切片的该第一表面之上的一处理形成。
搜索关键词: 具有 杂质 区域 硅晶圆 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种硅晶圆(silicon wafer),包含:一硅切片(silicon slice),该硅切片具有一第一表面;以及一第一杂质捕集区域(gettering region),该第一杂质捕集区域形成于该硅切片的该第一表面上,并且由施加于该硅切片的该第一表面的一处理(treatment)形成。
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  • 本发明提供的一种蓝宝石粗磨后清洗装置,结构简单,设计合理,先利用第一抓取机构与第二抓取机构配合使用,将蓝宝石固定好,然后利用喷水管与光轴配合使用,在蓝宝石上来回冲洗三次,喷水口的水压保持在30-40bar,达到快速稳定的清洗效果,清洗过后的蓝宝石表面的清洁度更高,耗水量更少,环境污染较小,节约大量的水资源,缩短了整个的清洗工艺的环节,提高工作效率,无需增加任何的清洗剂等污染环境的药剂成分,只要用纯水即可,经济环保,安全可靠,成本较低,更能满足厂家的需求。
  • N型单晶回收料清洗工艺-201510718841.0
  • 任亚娟;任瑞峰;李燕霞 - 包头市山晟新能源有限责任公司
  • 2015-10-28 - 2015-12-23 - C30B33/00
  • 本发明提供了一种N型单晶硅回收料清洗工艺,包括:用乙醇清洗单晶硅回收料;用碱性清洗剂清洗所述单晶硅回收料;及用HF/HNO3混酸溶液清洗所述单晶硅回收料。本发明的N型单晶硅回收料清洗工艺,可彻底清除单晶硅回收料表面的杂质,使之达到再次回炉的质量要求,该经过清洗的回收料可以40%的比例代替原生多晶硅再次拉制N型单晶棒,这不仅降低了材料成本而且还可以大幅降低回收料库存。
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