[发明专利]兼具阻隔作用及良好生物相容性的内壁涂层的制备方法

摘要

本发明公开了一种兼具阻隔作用及良好生物相容性的内壁涂层的制备方法，包括：将待处理体放入原子层沉积设备的反应腔体中，进行真空处理；将一定量的第一前驱体脉冲压入反应腔体中，第一前驱体在待处理体内壁浸润吸附，抽气去除多余第一前驱体；将一定量的第二前驱体脉冲压入反应腔体中，第二前驱体与待处理体内壁表面上的第一前驱体反应吸附，抽气去除多余第二前驱体及反应副产物；重复上述步骤，直至内壁沉积所需厚度的涂层薄膜；其中，第一前驱体为含钛前驱体，第二前驱体为含氧前驱体；或，第一前驱体为含氧前驱体，第二前驱体为含钛前驱体。通过该方法制备的涂层薄膜具有良好的水氧阻隔作用及有效的耐酸碱作用，还具有良好生物相容性。

主权项

一种兼具阻隔作用及良好生物相容性的内壁涂层的制备方法，其特征在于，包括：步骤S10：将待处理体放入原子层沉积设备的反应腔体中，对所述反应腔体进行真空处理；步骤S20：将一定量的第一前驱体脉冲压入所述反应腔体中，压入的第一前驱体在所述待处理体内壁浸润吸附，抽气去除多余的所述第一前驱体；步骤S30：将一定量的第二前驱体脉冲压入所述反应腔体中，压入的第二前驱体与所述待处理体内壁表面上的所述第一前驱体反应吸附，抽气去除多余的所述第二前驱体以及反应副产物；步骤S40：重复所述步骤S20和步骤S30，直至所述待处理体内壁沉积所需厚度的涂层薄膜；其中，所述第一前驱体为含钛前驱体，所述第二前驱体为含氧前驱体；或者，所述第一前驱体为含氧前驱体，所述第二前驱体为含钛前驱体。