[发明专利]一种利用同步可控电子束提高聚焦离子束加工精度的方法无效

专利信息
申请号: 201010569692.3 申请日: 2010-12-02
公开(公告)号: CN102064077A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 王荣明;罗浒;崔益民;姚骏恩 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 代理人: 王顺荣;唐爱华
地址: 100191 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种利用同步可控电子束提高聚焦离子束加工精度的方法,该方法有四大步骤:一、对刻蚀加工的样品进行清洗、烘干,然后装入双束系统的样品台上,并抽取真空;二、移动样品台到该双束系统的工作距离,调节该双束系统电压、束流等参数,调节好电子束与离子束象散,最终使该系统中的电子束与离子束的焦点汇聚于样品表面。三、在聚焦离子束曝光软件-图形发生器上设计好需要加工的图形;同时打开聚焦离子束和电子束辅助聚焦离子束刻蚀加工,根据聚焦离子束束流大小选择好合适的电子束束流范围;四、关闭该双束系统中电子束与离子束的高压,从样品室的样品台上取出加工刻蚀完的样品。它在半导体工业及材料的微纳米加工等技术领域里具有发展前景。
搜索关键词: 一种 利用 同步 可控 电子束 提高 聚焦 离子束 加工 精度 方法
【主权项】:
一种利用同步可控电子束提高聚焦离子束加工精度的方法,其特征在于:该方法具体步骤如下:步骤一:对刻蚀加工的样品进行清洗、烘干,然后装入聚焦离子束‑扫描电子显微镜双束系统样品室的样品台上,关上该双束系统的样品室门抽取真空;步骤二:移动样品台到该双束系统的工作距离,按要求调节该双束系统中电子束和离子束的电压、束流参数,根据聚焦离子束束流大小选择好电子束束流范围,为了保证有电子束中电子密度足够大,电子束束流选择为离子束束流的103倍以上;调节好电子束与离子束象散,最终使该系统中的电子束与离子束的焦点汇聚于样品表面;步骤三:当该双束系统中电子束与离子束聚焦调好后,利用束消隐关闭电子束与离子束,防止对样品造成损伤;在聚焦离子束曝光软件‑图形发生器上设计好需要加工的图形;打开聚焦离子束进行加工,同时打开电子束辅助聚焦离子束刻蚀加工;打开电子束的目的是既可以利用电子束高精度成像功能实现实时观测刻蚀加工过程,又可以因电子束的引入来中和离子束中的离子,减小离子束中库仑力来降低因库仑力带来离子间相互排斥作用,从而可以提高聚焦离子束的汇聚效果即减小离子束的束斑直径,最终达到提高其刻蚀加工精度目的;步骤四:关闭该双束系统中电子束与离子束的高压,从样品室的样品台上取出加工刻蚀完的样品。
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