[发明专利]图案化层状材料与形成转印模的方法

摘要

本发明提供了图案化层状材料的方法，该方法包括：提供层状材料；形成光致抗蚀剂层于该层状材料上；以激光光束图案化光致抗蚀剂层，露出部分的层状材料；以及蚀刻露出的部分的层状材料，以图案化层状材料。

主权项

1.一种图案化层状材料的方法，包括：提供层状材料；形成光致抗蚀剂层于该层状材料上；以聚焦的激光光束图案化该光致抗蚀剂层，露出部分的该层状材料；以及蚀刻露出的部分的该层状材料，以图案化该层状材料；其中该光致抗蚀剂层具有化学式如式1、式2、式3、式4、式5、式6、或式7：(式1)其中每一A环各自独立，选自取代或未取代的环烷基；R¹选自CH₂、氧、或SO₂；每一R²各自独立，选自氢、偶氮基、或取代或未取代的聚次甲基；每一X¹各自独立，选自氧、CH₂、烷基、或N-R³，其中R³选自氢、取代或未取代的C_1-18烷基、取代或未取代的C_1-18烷氧基、取代或未取代的C_1-18羧基、取代或未取代的C_1-18烷基酯基、取代或未取代的芳香基酯基、金刚烷基、金刚烷基羰基、或取代或未取代的芳烷基；每一X²各自独立，选自氧或C(CN)₂；以及每一X³各自独立，选自氧负离子、羟基、或C(CN)₂；(式2)(式3)其中每一B环各自独立，选自取代或未取代的芳香基、取代或未取代的杂芳基、或取代或未取代的含有芳香基的稠环；每一R⁴各自独立，选自氢、C=S、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳香基、取代或未取代的芳烷基、或取代或未取代的杂环基；每一X⁴各自独立，选自氧、取代或未取代的烷基、或N-R⁵，其中R⁵选自氢、取代或未取代的C_1-18烷基、取代或未取代的C_1-18烷氧基、取代或未取代的C_1-18羧基、取代或未取代的C_1-18烷基酯基、取代或未取代的芳香基酯基、金刚烷基、金刚烷基羰基、或取代或未取代的芳烷基；每一X⁵各自独立，选自氧、C(CN)₂、或C=O；以及M选自Fe、Co、Cu、Ni、或Zn；(式4)其中C环选自取代或未取代的环烷基；每一L各自独立，选自取代或未取代的次甲基；每一R⁶各自独立，选自取代或未取代的C_1-18烷基、取代或未取代的C_1-18烷氧基、取代或未取代的C_1-18羧基、取代或未取代的C_1-18烷基酯基、取代或未取代的芳香基酯基、金刚烷基、金刚烷基羰基、或取代或未取代的芳烷基；每一X⁶各自独立，选自氧、CH₂、或N-R⁷，其中R⁷选自取代或未取代的C_1-18烷基；每一X⁷各自独立，选自氧或C(CN)₂；每一X⁸各自独立，选自取代或未取代的烷撑基、或具有氧、硫、硒、或氮的取代或未取代的烷撑基；以及每一m各自独立，选自0或1；(式5)其中每一L’各自独立，选自取代或未取代的次甲基；每一R⁸各自独立，选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳香基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的杂环基、或二茂铁基；R⁹选自取代或未取代的C_1-18烷基、取代或未取代的C_1-18烷氧基、取代或未取代的C_1-18羧基、取代或未取代的C_1-18烷基酯基、取代或未取代的芳香基酯基、金刚烷基、金刚烷基羰基、或取代或未取代的芳烷基；每一X⁹各自独立，选自氧、CH₂、或N-R¹⁰，其中R¹⁰选自取代或未取代的C_1-18烷基；每一X¹⁰各自独立，选自氧或C(CN)₂；X¹¹选自取代或未取代的烷撑基、或具有氧、硫、硒、或氮的取代或未取代的烷撑基；以及n为0或1；(式6)其中每一L”各自独立，选自取代或未取代的次甲基；每一R¹¹各自独立，选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳香基、取代或未取代的芳烷基、或取代或未取代的杂环基；R¹²选自取代或未取代的C_1-18烷基、取代或未取代的C_1-18烷氧基、取代或未取代的C_1-18羧基、取代或未取代的C_1-18烷基酯基、取代或未取代的芳香基酯基、金刚烷基、金刚烷基羰基、或取代或未取代的芳烷基；每一X¹²各自独立，选自氧、CH₂、或N-R¹³，其中R¹³选自取代或未取代的C_1-18烷基；每一X¹³各自独立，选自氧或C(CN)₂；每一X¹⁴各自独立，选自取代或未取代的烷撑基、或具有氧、硫、硒、或氮的取代或未取代的烷撑基；以及每一k各自独立，选自0或1；(式7)其中每一L’各自独立，选自取代或未取代的次甲基；R¹⁴选自取代或未取代的C_1-18烷基、取代或未取代的C_1-18烷氧基、取代或未取代的C_1-18羧基、取代或未取代的C_1-18烷基酯基、取代或未取代的芳香基酯基、金刚烷基、金刚烷基羰基、或取代或未取代的芳烷基；每一X¹⁵各自独立，选自氧、硫、CH₂、或N-R¹⁵，其中R¹⁵选自氢或取代或未取代的C_1-18烷基；每一X¹⁶各自独立，选自氧、硫、或C(CN)₂；X¹⁷选自取代或未取代的烷撑基、或具有氧、硫、硒、或氮的取代或未取代的烷撑基；以及n为0或1。