[发明专利]等离子体处理室中的气体进给嵌件及其实现方法有效
| 申请号： | 201280058684.X | 申请日： | 2012-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN104040028A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·C·凯洛格;阿列克谢·马拉赫塔诺夫;拉金德尔·迪恩赛 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C23F1/00 | 分类号： | C23F1/00 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种被构造为置于穿过电极的组件的通道中的气体进给嵌件包括第一嵌件端部，在第一嵌件端部中具有与所述气体进给嵌件的线性轴平行对齐的第一钻孔。所述气体进给嵌件进一步包括在所述第一嵌件端部对面的第二嵌件端部，所述第二嵌件端部中具有与所述气体进给嵌件的线性轴平行对齐的第二钻孔，所述气体进给嵌件还包括与第一钻孔和第二钻孔气流连通的钻孔到钻孔连通通道。所述钻孔到钻孔连通通道形成在所述气体进给嵌件的外表面中以便在气体从第一嵌件端部流动穿过钻孔到钻孔连通通道到第二嵌件端部时阻碍视线。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 中的 气体 进给 及其 实现 方法 | ||
【主权项】：
一种被构造为置于穿过电极的组件的通道中的气体进给嵌件，其包括第一嵌件端部，其中具有与所述气体进给嵌件的线性轴平行对齐的第一钻孔；在所述第一嵌件端部对面的第二嵌件端部，所述第二嵌件端部中具有与所述气体进给嵌件的所述线性轴平行对齐的第二钻孔；以及与所述第一钻孔和所述第二钻孔气流连通的钻孔到钻孔连通通道，所述钻孔到钻孔连通通道被形成在所述气体进给嵌件的外表面中以便在气体从所述第一嵌件端部流动穿过所述钻孔到钻孔连通通道到所述第二嵌件端部时阻碍视线。
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