[实用新型]一种薄膜衬底清洗装置有效
申请号: | 201320246813.X | 申请日: | 2013-05-09 |
公开(公告)号: | CN203400895U | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 何泓材;罗斐斐;王宁;钱能;杨奎;朱家昆 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | B08B3/04 | 分类号: | B08B3/04;B08B13/00 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 张杨 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型涉及了一种薄膜衬底清洗装置,包括基座和基座盖,基座盖布置若干筛孔,基座盖由其上设置的提杆与基座可拆卸连接;基座下表面向上凹进形成底槽,所述底槽与基座上表面开有若干圆通孔,且在基座下边缘设置有开口。本实用新型的薄膜衬底清洗装置有如下的优点和积极效果:能使衬底在超声清洗和沸煮过程中不会发生翻转和漂浮脱离圆通孔,并且清洗液能在上盖筛孔、圆通孔和基座底槽间形成有效流动,防止污渍的二次污染;圆通孔结构可使薄膜衬底与该装置接触面减小并在清洗结束时清洗液能快速的流出孔槽,提高了衬底的清洁度;基座盖的提手能方便的将整个装置从清洗液中取出。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜 衬底 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种薄膜衬底清洗装置,包括基座(1)和基座盖(5),所述基座盖(5)布置若干筛孔(6),所述基座盖(5)由其上设置的提杆(7)与基座(1)可拆卸连接,其特征在于:基座(1)下表面向上凹进形成底槽(2),所述底槽(2)与基座上表面开有若干圆通孔(3),且在基座下边缘设置有开口。
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