[发明专利]光刻用共聚物及其制造方法、抗蚀剂组合物以及基板的制造方法有效
申请号: | 201380012848.X | 申请日: | 2013-03-05 |
公开(公告)号: | CN104159937A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 安田敦;押切友也;中条美帆 | 申请(专利权)人: | 三菱丽阳株式会社 |
主分类号: | C08F220/12 | 分类号: | C08F220/12;C08F2/00;G03F7/039;H01L21/027 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 刘香兰 |
地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种光刻用共聚物,具有含有酸离去基团的单体单元和不含酸离去基团的单体单元,将在通过GPC得到的洗脱曲线中显示出共聚物涉及的色谱峰的洗脱液,按照洗脱顺序,分成体积均等的5个组分,其中,将最先洗脱的第1个至第4个的各组分中所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为N(v1)~N(v4)摩尔%、5个组分合计所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为Nave摩尔%时,N(v1)/Nave为1.01~1.09,N(v2)/Nave、N(v3)/Nave及N(v4)/Nave均为0.95~1.05。 | ||
搜索关键词: | 光刻 共聚物 及其 制造 方法 抗蚀剂 组合 以及 | ||
【主权项】:
一种光刻用共聚物,由含有酸离去基团的至少1种单体及不含酸离去基团的至少1种单体聚合得到,将在通过凝胶渗透色谱GPC得到的洗脱曲线中显示出该共聚物涉及的色谱峰的洗脱液,按照洗脱顺序,分成体积均等的5个组分,其中,将最先洗脱的第1个组分中所含有的构成共聚物的全部单体单元中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为N(v1)摩尔%,第2~4个洗脱的各组分中所含有的构成共聚物的全部单体单元中的含有酸离去基团的单体单元的比率分别设为N(v2)摩尔%、N(v3)摩尔%、N(v4)摩尔%,所述5个组分合计所含有的构成共聚物的全部单体单元中的含有酸离去基团的单体单元的比率为Nave摩尔%时,N(v1)/Nave为1.01~1.09,N(v2)/Nave、N(v3)/Nave及N(v4)/Nave均为0.95~1.05。
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