[发明专利]目标基板、光刻测量方法和基板有效
| 申请号： | 201510455614.3 | 申请日： | 2015-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN105319866B | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 金志明;郑圭珉;郑泰和;尹广燮 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本公开提供了目标基板、光刻测量方法和基板。一种基板可以包括：在基板上的包括在集成电路中的特征图案；和在基板上的与特征图案间隔开的原位测量图案，该原位测量图案和特征图案两者被配置为相对于基板的表面具有相同的高度。 | ||
| 搜索关键词： | 目标 光刻 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻测量的目标基板，包括：基板；特征图案，在所述基板上；和亚波长光栅标记，相对于所述基板在与所述特征图案相同的水平上，所述亚波长光栅标记包括以第一节距间隔开的多个衍射图案，该亚波长光栅标记配置为测量影响所述特征图案的形成的焦距变化，其中所述焦距变化基于被所述多个衍射图案衍射的输出光束当中的零级衍射光束中包括的横向电(TE)偏振光分量与横向磁(TM)偏振光分量的数据确定。
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