[发明专利]一种缺陷扫描机台及其缺陷自动分类方法在审
| 申请号： | 201711394096.4 | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN108133900A | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 胡向华;何广智;顾晓芳;倪棋梁;龙吟;陈宏璘 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种缺陷扫描机台及其缺陷自动分类方法，所述缺陷扫描机台包括：GDS数据库建立单元，用于加入GDS数据库，并于数据库中定义不同区域，根据不同区域定义不同类型缺陷；缺陷扫描单元，用于扫描目标晶圆以捕获缺陷；缺陷比对单元，用于于扫描过程中实时将捕获到的缺陷于所述GDS数据库进行比对；缺陷分类单元，根据所述缺陷比对单元的比对结果确定缺陷所处区域，进而根据预先定义确定相应的区域的缺陷类型以实现缺陷的自动分类，本发明实现致命缺陷与非致命缺陷的自动分类。 | ||
| 搜索关键词： | 自动分类 缺陷扫描机台 数据库 比对单元 致命缺陷 捕获 数据库建立单元 缺陷扫描单元 比对结果 区域定义 缺陷分类 缺陷类型 扫描过程 扫描目标 预先定义 比对 晶圆 与非 | ||
【主权项】：
一种缺陷扫描机台，包括：GDS数据库建立单元，用于加入GDS数据库，并于数据库中定义不同区域，根据不同区域定义不同类型缺陷；缺陷扫描单元，用于扫描目标晶圆以捕获缺陷；缺陷比对单元，用于于扫描过程中实时将捕获到的缺陷于所述GDS数据库进行比对；缺陷分类单元，根据所述缺陷比对单元的比对结果确定缺陷所处区域，进而根据预先定义确定相应的区域的缺陷类型以实现缺陷的自动分类。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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