[发明专利]一种掩膜板以及阵列基板的制备方法

摘要

本发明提供一种掩膜板及阵列基板的制备方法，通过在掩膜板用于形成半过孔的掩膜图形内设置至少一个功能部，该功能部与半过孔的深孔区域和浅孔区域的交界处相对应，用于在形成半过孔的过程中，在待刻蚀的基板上与深孔区域和浅孔区域的交界处相对应的位置保留光刻胶，且该位置的光刻胶的厚度小于非半过孔位置的光刻胶的厚度；在刻蚀半过孔的过程中，深孔区域和浅孔区域的交界处先刻蚀到光刻胶，在半过孔刻蚀完成前保证残留的光刻胶刻蚀不会过早消耗完，从而避免底切现象，覆盖半过孔的电极层可以与深孔区域的电极层和浅孔区域的金属层牢固连接，从而保证信号的有效转接，无需要增大半过孔外围电极层的连接宽度，从而提升像素开口率及面板透过率。

主权项

1.一种掩膜板，包括用于在待刻蚀的基板上形成半过孔的掩膜图形，其特征在于，所述掩膜图形内设置有至少一个功能部，所述功能部与所述半过孔的深孔区域和浅孔区域的交界处相对应，用于在形成所述半过孔的过程中，在所述基板上与所述半过孔的深孔区域和浅孔区域的交界处相对应的位置保留光刻胶，且所述位置的光刻胶的厚度小于非半过孔位置的光刻胶的厚度，以使所述交界处相对应位置的光刻胶在半过孔的刻蚀过程中能够同时被刻蚀。