[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质

摘要

本发明提供一种基片处理装置、基片处理方法和存储介质。实施方式的基片处理装置包括供给流路、排气流路、循环路径、排气切换阀和控制部。供给流路向处理室供给清洁气体。排气流路使从处理室排出的排出气体流到外部。循环路径使在排气流路流动的排出气体返回供给流路。排气切换阀设置于排气流路或循环路径，能够在排气流路与循环路径之间选择性地切换排出气体的流路。当处理室中使用的处理液的种类切换时，控制部控制排气切换阀，使得排出气体的流路从循环路径切换至排气流路。即使在增加晶片的处理中使用的处理液的种类增加的情况下，和为了减少晶片的处理中产生的雾或颗粒而增加排气容量的情况下，也能够抑制除害装置大型化。

主权项

1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：向处理室供给清洁气体的供给流路；排气流路，其使从所述处理室排出的排出气体流到外部；循环路径，其使在所述排气流路流动的所述排出气体返回所述供给流路；排气切换阀，其设置于所述排气流路或所述循环路径，能够在所述排气流路与所述循环路径之间选择性地切换所述排出气体的流路；和控制部，当所述处理室中使用的处理液的种类切换时，其控制所述排气切换阀，使得所述排出气体的流路从所述循环路径切换至所述排气流路。