[发明专利]电子显微镜中测量和控制像差有效
申请号: | 201880026685.3 | 申请日: | 2018-05-10 |
公开(公告)号: | CN110546732B | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | R·M·特朗普 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H01J37/05 | 分类号: | H01J37/05 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李颖 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种电子显微镜系统和测量电子显微镜系统的像差的方法。光圈在所述电子显微镜的衍射平面处过滤电子束以穿过具有选定能量和动量的电子。在所述电子显微镜的像平面中的检测器处测量所述通过的电子的图像的位移。所述电子显微镜的像差系数由所述测量的位移和所述通过的电子的所述能量和动量中的至少一个确定。所述测量出的像差可用于改变所述电子显微镜或所述电子显微镜的光学元件的参数,从而控制所述电子显微镜的整体像差。 | ||
搜索关键词: | 电子显微镜 测量 控制 | ||
【主权项】:
1.一种测量电子显微镜像差的方法,包括:/n在所述电子显微镜的衍射平面上过滤所述电子显微镜的电子束,以通过具有选定能量和动量的电子;/n测量在所述电子显微镜的像平面上所述通过的电子的图像的位移;/n根据所述测量的位移和所述通过的电子的所述能量和动量中的至少一个确定所述电子显微镜的像差系数;和/n改变所述电子显微镜的参数以至少部分地基于所述确定的像差系数来控制所述电子显微镜的所述像差。/n
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- 戴习毛;唐景庭;伍三忠;孙勇;刘世勇 - 北京中科信电子装备有限公司
- 2010-10-13 - 2012-05-09 - H01J37/05
- 本发明公开了一种新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统,涉及离子注入机,属于半导体制造领域。所述的离子源,产生需要的各种离子;所述的源过滤磁铁,初次进行离子偏转筛选;所述的加速管,束能量加速或减速到所需注入的能量;所述的质量分析器,实现离子筛选功能;所述的分析光栏,为可调分析缝,使所需要的离子通过,对离子具有提纯作用;所述的偏转扫描系统,将束扩张水平带状束;所述的平行束透镜,使离子束校正为平行束;所述的大倾角单片靶盘,单片装载晶片,注入角度0°-60°可调。本发明可实现大倾角离子注入机的光学系统的要求,具有离子纯度高、离子能量精确度高、注入角度精确高、传输效率高等优点。
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