[实用新型]一种高分子缓冲覆型离型膜有效
| 申请号： | 202022213669.2 | 申请日： | 2020-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN213564882U | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 蔡高明;杨桂林;梁汉声 | 申请（专利权）人： | 深圳市瑞昌星科技有限公司 |
| 主分类号： | B32B33/00 | 分类号： | B32B33/00;B32B29/00;B32B27/36;B32B27/38;B32B27/10;B32B7/06;H05K3/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种高分子缓冲覆型离型膜，包括，PTFE、ETPE材料的第一离型层，PI、TPX材料的半离型膜层，PET、环氧树脂的流胶缓冲膜层，低流胶半固化片的低流胶缓冲膜层，白卡纸层，PTFE、ETPE材料的第二离型层；其中，低流胶缓冲膜层的一面附着于白卡纸层的一面，流胶缓冲膜层的一面附着于低流胶缓冲膜层的另一面，半离型膜层的一面附着于流胶缓冲膜层的另一面，第一离型层附着于半离型膜层的另一面，第二离型层附着于白卡纸层的另一面；本实用新型的高分子缓冲覆型离型膜能够为混压结构的多层电路板提供良好的覆型离型辅助材料，有效防止混压结构在热压合过程中产生压合不均、涨缩不均、压合偏位、滑板、偏位问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高分子 缓冲 覆型离型膜 | ||
【主权项】：
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