[发明专利]成膜装置和成膜方法在审

专利信息
申请号: 202110614529.2 申请日: 2021-06-02
公开(公告)号: CN113774355A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 反田雄太;齐藤哲也;大仓成幸;古屋雄一;原正道 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C16/16 分类号: C23C16/16;C23C16/44;C23C16/455
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开提供一种成膜装置和成膜方法,能够进行抑制了微粒的影响的成膜。在基板上形成膜的成膜装置具有:腔室;基板载置台,其设置于腔室内,载置基板并且将基板保持为成膜温度;气体供给部,其供给包含成膜原料气体的气体;气体喷出构件,其与基板载置台相向地设置,具有用于喷出从气体供给部供给的包含成膜原料气体的气体的气体喷出区;以及过滤器,其以覆盖气体喷出构件的同与基板载置台相向的相向面相反一侧的面的至少气体喷出区的方式设置,所述过滤器使包含成膜原料气体的气体通过来捕获包含成膜原料气体的气体中的微粒。
搜索关键词: 装置 方法
【主权项】:
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