[发明专利]一种基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印方法有效

专利信息
申请号: 202111275152.9 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN114030304B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 杨涛;邓刚;李慧敏;赵军 申请(专利权)人: 绍兴虎彩激光材料科技有限公司
主分类号: B41M5/03 分类号: B41M5/03;B41M5/00;B41M1/30;B41M7/00
代理公司: 绍兴市越兴专利事务所(普通合伙) 33220 代理人: 高林
地址: 312000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明属于转印工艺技术领域,具体涉及一种基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印方法。一种基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印方法,包括以下步骤:紫外光固化模压、真空镀膜、镀层保护涂料涂布、复合过程、剥离过程。本发明提供的一种基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印方法,施工过程中所用的卷状模板可重复使用,有效降低生产成本;引入光固化技术,能够简单有效地构建起微纳结构,相较于与其他的高成本手段,光固化技术优势明显;通过构建微纳结构,能够有效制造出立体效果。
搜索关键词: 一种 基于 可复用 紫外 光固化 材料 结构 方法
【主权项】:
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