[发明专利]液处理方法和液处理装置在审
申请号: | 202111394120.0 | 申请日: | 2021-11-23 |
公开(公告)号: | CN114570556A | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 宫窪祐允;高桥哲平 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | B05B13/02 | 分类号: | B05B13/02;B05B12/08;H01L21/67 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;刘芃茜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供液处理方法和液处理装置,能够抑制由从基片甩落的涂敷液导致的棉絮状块的产生。液处理方法包括:将涂敷液供给到基片的正面的步骤;和使上述涂敷液在上述基片的正面上扩散,在该正面上形成涂敷膜的步骤,在上述形成涂敷膜的步骤中,从上述涂敷液到达上述基片的正面的周缘部前起,开始从溶剂供给部向上述周缘部连续供给上述涂敷液的溶剂,并至少持续至上述形成涂敷膜的步骤结束。 | ||
搜索关键词: | 处理 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111394120.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于贝塞尔牛顿的导弹多约束末制导律设计方法
- 下一篇:盖单元以及带盖容器