[发明专利]液处理方法和液处理装置在审

专利信息
申请号: 202111394120.0 申请日: 2021-11-23
公开(公告)号: CN114570556A 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 宫窪祐允;高桥哲平 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: B05B13/02 分类号: B05B13/02;B05B12/08;H01L21/67
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;刘芃茜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供液处理方法和液处理装置,能够抑制由从基片甩落的涂敷液导致的棉絮状块的产生。液处理方法包括:将涂敷液供给到基片的正面的步骤;和使上述涂敷液在上述基片的正面上扩散,在该正面上形成涂敷膜的步骤,在上述形成涂敷膜的步骤中,从上述涂敷液到达上述基片的正面的周缘部前起,开始从溶剂供给部向上述周缘部连续供给上述涂敷液的溶剂,并至少持续至上述形成涂敷膜的步骤结束。
搜索关键词: 处理 方法 装置
【主权项】:
暂无信息
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