[发明专利]石英玻璃坩埚及其制造方法、以及单晶硅的制造方法在审
申请号: | 202180076358.0 | 申请日: | 2021-12-06 |
公开(公告)号: | CN116648435A | 公开(公告)日: | 2023-08-25 |
发明(设计)人: | 北原江梨子;岸弘史;藤原秀树 | 申请(专利权)人: | 胜高股份有限公司 |
主分类号: | C03B20/00 | 分类号: | C03B20/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 梅黎 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种在晶体提拉工序中的高温下不易变形,且可承受住长时间提拉的单晶硅提拉用石英玻璃坩埚及其制造方法。石英玻璃坩埚(1)自坩埚的内表面侧向外表面侧具有内侧透明层(11)、气泡层(13)、外侧透明层(15)及含晶体化促进剂的层(16)。在气泡层(13)与外侧透明层(15)的边界部设置有气泡含有率自气泡层(13)向外侧透明层(15)减少的外侧过渡层(14),外侧过渡层(14)的厚度为0.1mm以上8mm以下。 | ||
搜索关键词: | 石英玻璃 坩埚 及其 制造 方法 以及 单晶硅 | ||
【主权项】:
暂无信息
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